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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>濕法清洗設備>GNP CLEANER-812L CMP后清洗機

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GNP CLEANER-812L CMP后清洗機

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 產品概述

適用晶圓尺寸:200mm(8")和300mm(12")

配置:獨立配置4個清洗工位,DIW刀預清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋轉漂洗干燥(可選分離式QDR)清潔器尺寸:1,970W 975D 1,380Hmm

電刷尺寸:70(外徑)32(內徑)320()毫米

預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學:nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉速:<滿量程的±2%范圍30 ~ 300rpm

化學品供應:4個噴嘴和通過刷子

可用化學:2化學[NH4OH]            

化學品流量:滿量程< 1L/min

DI流量:滿量程<5L/min

轉站

旋轉速度:2500/DIW沖洗/ N2

控制工藝:自動上片,自動順序,濕進/干出

程序控制:PC & PC觸摸監控,程序可編程,計算機網絡可比




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