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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>其它薄膜沉積設備>Propel HVM GaN 金屬有機化學氣相沉積

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Propel HVM GaN 金屬有機化學氣相沉積

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1.產品概述:

Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統被設計為一種大批量制造單晶圓反應器簇系統,適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應器平臺,能夠在150和200毫米晶圓上產生高質量外延膜性能,以實現均勻性、可重復性和良率。PropelHVM系統可配置多達6個模塊化集群室,以實現最大的生產力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業務的理想選擇。

2.產品優勢

單晶圓反應器基于VeecoTurboDisc®設計,采用突破性技術,包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布。客戶可以輕松地將工藝從Veeco的單晶圓反應器Propel和K465i™系統轉移到PropelHVMGaNMOCVD平臺,以實現快速開發到生產周期.

Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統被設計為一種大批量制造單晶圓反應器簇系統,適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應器平臺,能夠在150和200毫米晶圓上產生高質量外延膜性能,以實現均勻性、可重復性和良率。PropelHVM系統可配置多達6個模塊化集群室,以實現大的生產力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業務的理想選擇。

單晶圓反應器基于VeecoTurboDisc®設計,采用突破性技術,包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布。客戶可以輕松地將工藝從Veeco的單晶圓反應器Propel和K465i™系統轉移到PropelHVMGaNMOCVD平臺,以實現快速開發到生產周期





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