NEXUS IBD 離子束沉積設備

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產品標簽

薄膜沉積離子束沉積

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公司介紹 主營產品

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

展開

冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發

1.產品概述：

NEXUS IBD是由VEECO研發的第三代NEXUS® 離子束沉積（IBD），適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積。

2.產品原理：

離子束輔助沉積的原理是在離子束的作用下，將氣態或液態物質引導到材料表面，通過物理或化學反應，形成固態薄膜。離子束輔助沉積具有沉積溫度低、薄膜質量高、可控制性好等優點，因此在光電、電子、能源等領域得到廣泛應用。

3.產品優勢：

數據存儲制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積（IBD）系統大幅提高 80Gb/in2 傳感器的產量，并滿足未來 TFMH 設備制造的需求。

支持各種設備，從當的 CIP 到高 CPP 設備

MRAM 應用以及 GMR 和 TMR 薄膜磁頭的理想選擇

改進了所有準直沉積應用的 CD 控制

通過沉積羽流的對稱到達獲得更銳利的起飛角度

平臺易于與 PVD、IBE 和其他技術集成