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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>去膠機>IoN 10Q IoN系列等離子清洗去膠系統

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IoN 10Q IoN系列等離子清洗去膠系統

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半導體前道去膠

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

IoN系列等離子系統具有多種射頻電源選項,可滿足客戶的特定工藝和產量要求。 我們提供不同腔體和電配置,大腔體可達 1200 升。

PVA TePla 的 IoN 10Q 是一款桌式全功能射頻等離子機,可用于批量晶圓去膠和清除殘膠,為實驗室和量產使用而設計,多可處理 25片晶圓,晶圓大尺寸為 150 毫米。

PVA TePla的IoN 100-40Q是一款功能齊全的射頻等離子機,可用于批量晶圓去膠和清除殘膠,為實驗室和量產使用而設計,多可處理50片晶圓,晶圓大尺寸為200毫米。

PVA TePla 的 IoN 單片晶圓去膠機是一款功能齊全的先進射頻等離子機,可用于單片晶圓去膠和清除殘膠,為實驗室和量產使用而設計,可處理大的晶圓為200毫米。

PVA TePla 的 IoN 200 是一款功能齊全的射頻等離子機 ,可用于表面改性,設計用于實驗室和處理大型基板或大批量生產。 該機臺還為等離子增強化學氣相沉積應用提供了對應的功能。

PVA TePla 的 IoN 40 是一款功能齊全的桌式先進射頻等離子機,可用于表面改性,為實驗室和量產使用而設計,適用于處理較小的基板或中小產量。該機臺還為等離子增強化學氣相沉積應用提供了對應的功能。




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