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SENTECH Depolab 200 開蓋等離子體沉積系統(tǒng)PECVD

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PECVDSENTECH化學(xué)氣相沉積

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

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1. 產(chǎn)品概述

SENTECH Depolab 200 是基本的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng),適用于沉積用于蝕刻掩模、膜和電隔離膜以及許多其他材料的介電膜。結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)和靈活的直接加載設(shè)計(jì)。從 2 英寸至 200 毫米晶圓和樣品片的標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用開始。

2. 成本效益

該系統(tǒng)將平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接負(fù)載相結(jié)合。

3. 可升級(jí)性

根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì),SENTECH Depolab 200 可升級(jí)為更大的泵送裝置、用于應(yīng)力控制的低頻電源和額外的燃?xì)夤芫€。

4. 操作軟件

用戶友好的強(qiáng)大軟件包含在 GUI、參數(shù)窗口、配方編輯器、數(shù)據(jù)記錄和用戶管理中。

5. 靈活性和模塊化

SENTECH Depolab 200 PECVD 系統(tǒng)配置為在高達(dá) 400 °C 的溫度范圍內(nèi)沉積 SiO2、SiNx、SiONx 和 a-Si 薄膜。 該系統(tǒng)特別適用于用于蝕刻掩模、膜、電隔離膜等的介電膜沉積。

SENTECH Depolab 200 由先進(jìn)的硬件和 SIA 操作軟件控制,具有客戶端-服務(wù)器架構(gòu)。一個(gè)經(jīng)過充分驗(yàn)證的可靠可編程邏輯控制器(PLC)用于所有組件的實(shí)時(shí)控制。











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