日本kelk超純水加熱裝置用于清洗硅晶片等 PWH-144i 特點介紹

熱水供應裝置非常適合使用超純水對硅晶片和液晶玻璃基板進行現場清洗。

本裝置是對半導體制造線上的硅芯片的清洗、液晶制造線上的玻璃基板的清洗等使用的超純水進行加熱的裝置。

加熱部由高品質石英玻璃雙層覆蓋的鹵素燈組成，無雜質污染，高效的超純水加熱安裝。

而且，特別是緊湊型由于設計精巧，使用點的安裝空間最小化。

日本kelk超純水加熱裝置用于清洗硅晶片等 PWH-144i 規格參數

1.清潔加熱部的容器為石英玻璃，配管部為氟樹脂。2.緊湊型，不占用安裝面積。3.高性能溫控高輸出鹵素燈帶來的優異的升溫上升特性和流量變化的溫控。4.高效率加熱效率95%以上。5.安全過溫空中燃燒通過針對漏水等的安全功能及警報功能，對應安全性。1.硅芯片清洗2.液晶用玻璃基板的清洗3.代替其他氟氯化碳系清洗的溫純水清洗

熱水供應裝置非常適合使用超純水對硅晶片和液晶玻璃基板進行現場清洗。

本裝置是對半導體制造線上的硅芯片的清洗、液晶制造線上的玻璃基板的清洗等使用的超純水進行加熱的裝置。

加熱部由高品質石英玻璃雙層覆蓋的鹵素燈組成，無雜質污染，高效的超純水加熱安裝。

而且，特別是緊湊型由于設計精巧，使用點的安裝空間最小化。