1. 產品概述

PFS系列是SiC工藝等高溫處理工藝中，配合使用的退火設備。可大對應φ 150mm。活性化退火設備?是一種專門用于半導體行業的技術設備，它屬于退火爐的一種，用于加熱半導體晶片以影響其電性能。退火爐在半導體器件制造中扮演著重要的角色，通過加熱晶片來激活摻雜劑、轉換薄膜形態、修復注入損傷等，從而改善半導體的電氣性能。這種設備通常具有節能型周期式作業爐結構，采用超節能設計和纖維結構，以實現高效節能。此外，活性化退火設備還能夠集成到其他爐子處理步驟中，如氧化處理，或者獨立進行處理，以滿足不同的工藝需求。

2. 設備用途/原理

SiC功率器件用。研究開發。量產用。

3. 設備特點

大可對應φ150mm基板。大可加熱2000℃。高真空對應。單批次25片一次性處理（也有5片處理機）