AL-1 無針孔薄膜沉積設備
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
- 品牌 SAMCO
- 型號 AL-1
- 產地 日本
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2024/9/6 11:36:36
- 訪問次數 179
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1. 產品概述
AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑,僅利用表面反應沉積薄膜,實現了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率。薄膜的厚度可以控制在原子層的數量。此外,可以在高寬比的孔內壁上沉積覆蓋性好、厚度均勻的薄膜。可同時沉積3片?4英寸的晶片。
2. 設備用途/原理
用于下一代功率器件的柵氧化膜和鈍化膜。在3D結構上形成均勻的薄膜,如MEMS。激光表面的沉積。碳納米管的鈍化膜。
3. 設備特點
成膜效率高,通過提供幾十毫量的脈沖,減少了原材料的損耗,提高了沉積效率。真空清潔,溫度不均勻性小,通過緊貼反應室內壁的內壁加熱器,抑制反應室的溫度不均勻,可獲得清潔的真空。無針孔成膜,由于多種驅體在反應室中沒有混合,因此可以防止顆粒,形成無針孔的薄膜。