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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>其它薄膜沉積設備>AL-1 無針孔薄膜沉積設備

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AL-1 無針孔薄膜沉積設備

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

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1. 產品概述

AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑,僅利用表面反應沉積薄膜,實現了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率。薄膜的厚度可以控制在原子層的數量。此外,可以在高寬比的孔內壁上沉積覆蓋性好、厚度均勻的薄膜。可同時沉積3片?4英寸的晶片。

2. 設備用途/原理

用于下一代功率器件的柵氧化膜和鈍化膜。在3D結構上形成均勻的薄膜,如MEMS。激光表面的沉積碳納米管的鈍化膜

3. 設備特點

成膜效率高,通過提供幾十毫量的脈沖,減少了原材料的損耗,提高了沉積效率。真空清潔,溫度不均勻性小,通過緊貼反應室內壁的內壁加熱器,抑制反應室的溫度不均勻,可獲得清潔的真空。無針孔成膜,由于多種驅體在反應室中沒有混合,因此可以防止顆粒,形成無針孔的薄膜。




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