1. 產品概述

Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統。

2. 設備用途/原理

Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統，填孔能力以及高沉積速率，溫度場和 ICP 電磁場設計保證了低溫高致密的膜質表現，優化機臺結構，縮小占地面積，友好的人機交互和安全性設計保障系統穩定、安全、高效。

3. 設備特點

晶圓尺寸 12 英寸，適用材料氧化硅。適用工藝淺溝槽隔離、金屬間介質層、鈍化層。適用域 新興應用、集成電路。等離子體化學氣相沉積(plasmachemical vapor deposition)是指用等離子體激活反應氣體，促進在基體表面或近表面空間進行化學反應，生成固態膜的技術。按產生等離子體的方法，分為射頻等離子體、直流等離子體和微波等離子體CVD等。