一、產品概述：

Nikon S308F 掃描式光刻機是一款高性能的設備，專為先進半導體制造而設計，適用于 300mm 晶圓的生產。該機型采用了先進的掃描技術和高分辨率光學系統，能夠實現精準的圖案轉移，滿足現代集成電路和微機電系統的制造需求。其快速的曝光速度和高生產效率使其適合大批量生產，同時用戶友好的操作界面和自動化功能也降低了操作難度。憑借其穩定性和可靠性，Nikon S308F 在復雜的制造環境中表現出色，廣泛應用于半導體行業。

二、設備用途/原理：

該設備以其高分辨率和高效的曝光能力，確保了在先進制造領域的應用。該設備利用高強度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。首先，光源發出特定波長的光線，通過高分辨率的光學系統，掃描掩模并將其圖案精確投影到晶圓上。曝光后，光刻膠的化學性質發生變化，接著進行顯影過程，去除未曝光或已曝光的光刻膠，形成所需圖案。隨后，利用刻蝕工藝將圖案轉移到晶圓材料上，最后去除殘留的光刻膠。通過這種方式，Nikon S308F 能夠高效地實現復雜圖形的精確轉移，滿足現代半導體制造的需求。

三、主要技術指標：

四、設備特點

Nikon S308F掃描式光刻機

光源波長193nm

分辨率優于0.07µm

主要用于4寸、6寸、8寸及12寸生產線

廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等域