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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>無掩模光刻機/直寫光刻機>Nikon NSR 1755/1505i7A/B 步進式光刻機

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Nikon NSR 1755/1505i7A/B 步進式光刻機

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

一、產品概述:

Nikon NSR 1755/1505i7A/B步進式光刻機是一款高精度的半導體制造設備,該機型采用先進的步進光刻技術,能夠實現高分辨率和高精度的圖案轉移,廣泛應用于集成電路(IC)、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其良好的成像質量和快速的曝光速度,Nikon NSR 1755/1505i7A/B非常適合大批量生產,同時其用戶友好的操作界面和高效的自動化功能提升了生產效率。這使得Nikon NSR 1755/1505i7A/B成為現代半導體制造過程中的重要工具,滿足行業對高質量和高效率的需求。

二、設備用途/原理:

該設備通過高強度光源將掩模上的圖案逐步投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發出特定波長的光線,經過高分辨率光學系統,精確地將掩模圖案投影到晶圓上進行曝光。曝光后,光刻膠的化學性質發生變化,隨后進行顯影,去除未曝光或已曝光的光刻膠,從而形成所需的圖案。接著,利用刻蝕工藝將圖案轉移到晶圓材料上,最后去除殘留的光刻膠。通過這一系列步驟,Nikon NSR 1755/1505i7A/B能夠高效地實現復雜圖形的精確轉移,滿足現代半導體制造的高標準要求。

三、主要技術指標:

分辨率

0.6µm

N.A.

0.6

曝光光源

365nm

倍率

5:1

大曝光現場

15mm*15mm
17.5mm*17.5mm

對準精度

140nm

四、設備特點

Nikon NSR 1755/1505i7A/B步進式光刻機

光源波長365nm

分辨率優于0.6µm

主要用于2寸、4寸、6寸生產線

廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等




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