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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>外延系統> 激光 分子束外延系統

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激光 分子束外延系統

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設備的研發和應用。專業的團隊,專精的服務,提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業科研工作者提供專業的分析解決方案。以專業技能為導向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業的技術工程師和科研工作者進行現場演示和技術交流,打消顧慮,彼此協作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器。

客戶至上的服務理念,以人為本的企業文化,我們始終為用戶提供專業的服務!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

 

半導體材料分析,材料刻蝕

腔體尺寸 球形腔體,直徑:400 mm 樣品尺寸 1 英寸或 2 英寸向下兼容
樣品加熱 輻射式加熱 / 電阻式加熱 / 激光加熱 1000 ℃ / 950 ℃ / 1400 ℃ RHEED 兩級差分,30 kV
靶臺操控 6 靶位,1 英寸靶托,公自轉設計 抽氣泵組 進口:Pfeiffer分子泵,685 l/s Leybold干泵,14.5 m3/h
氣路 進口:質量流量計MKS,50 / 100 sccm 控壓方式 手動角閥/漏閥控壓
極限真空 5 x 10-9 mbar 光路支架 可根據用戶現場定制
軟件控制 動作程序控制,軟件編程控制工藝,設備全套互鎖

激光 分子束外延系統是一種用于物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點和優勢。它能在高真空、真空條件下實現原位實時監控薄膜原子尺度層狀外延生長。這一系統適用于多種有機、無機薄膜的制備,尤其適宜于用其它制膜設備和方法難以制備的高熔點、多元素(特別是含有氣體元素時)、復雜層狀結構的薄膜和超晶格的制備。此外,它還可以同時進行激光與物質相互作用及成膜過程的物理、化學觀測,為探索、開發新材料、新器件及相關基礎研究提供了一個強有力的平臺。

以上內容僅供參考,如需更多信息,可咨詢激光分子束外延系統方面的專家。激光分子束外延系統的核心部分是激光脈沖沉積系統,該系統使用高能量的脈沖激光束照射靶材,使靶材表面瞬間達到高溫高壓狀態,進而蒸發、離化靶材原子或分子,形成高溫、高密度的等離子體羽輝。這些離子、原子或分子在羽輝中迅速冷卻并定向傳輸到基片表面,最終沉積形成薄膜。

激光 分子束外延系統的另一個重要組成部分是超高真空系統,該系統能夠在生長過程中保持真空度,有效防止雜質和污染物對薄膜生長的影響。同時,該系統還配備了多種原位監測和表征手段,如反射式高能電子衍射儀(RHEED)、光學顯微鏡、橢偏儀等,可以對薄膜生長過程進行實時監控和精確控制。

此外,激光分子束外延系統還具有高度的靈活性和可擴展性。通過改變靶材和基片的種類,以及調整激光參數和生長條件,可以制備出各種不同類型、不同性能的薄膜材料。同時,該系統還可以與其他先進的實驗設備和技術相結合,如原子力顯微鏡(AFM)、掃描隧道顯微鏡(STM)等,以進一步探索薄膜材料的物理和化學性質。

總之,激光分子束外延系統是一種功能強大、應用廣泛的薄膜制備技術,它在材料科學、物理學、電子學等領域的研究和應用中發揮著重要作用。隨著科學技術的不斷發展,激光分子束外延系統將在更多領域展現出的優勢和潛力。




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