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HC-XAFS-T 熱催化原位池

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安徽吸收譜專注于X射線吸收發(fā)射譜技術(shù)和光譜儀器開發(fā),為科研人員提供專業(yè)的吸收發(fā)射譜技術(shù)解決方案。公司由院士牽頭,基于同步輻射背景的博士在吸收發(fā)射譜領(lǐng)域10余年的技術(shù)研究積累,開發(fā)標(biāo)準(zhǔn)化的臺(tái)式X-射線吸收設(shè)備譜設(shè)備。

公司秉承“讓XAFS走進(jìn)實(shí)驗(yàn)室”的技術(shù)追求,鉆研吸收發(fā)射譜技術(shù),發(fā)揚(yáng)工匠精神和現(xiàn)代科學(xué)創(chuàng)新精神,持之以恒推進(jìn)X射線技術(shù)和儀器設(shè)備研發(fā)。

 

 

X射線吸收/發(fā)射譜儀

供貨周期 現(xiàn)貨 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,能源,建材

型號(hào)HC-XAFS-T

熱催化原位池是一款為研究電極材料在熱催化實(shí)驗(yàn)中的結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)。工作電極(WE)放置在透視窗口處,從而使X射線能夠穿透工作電極。

●此裝置主體為高強(qiáng)度鋼結(jié)構(gòu),可以耐800oC高溫和1~3MPa的高壓(配置小窗口可以實(shí)現(xiàn)更高壓力);

●實(shí)現(xiàn)1℃精確控溫;

●此原位池可用于透射模式原位XAFS測(cè)試;

●靈活控制階梯式升溫,并可通入各種反應(yīng)氣氛,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)升溫條件下物相變化;

●光窗直徑:13mm; 光學(xué)窗口選用Be窗;樣品片為粉末狀圓片;

●配循環(huán)冷卻裝置,循環(huán)水溫控制在25oC。





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