DISC-RIE-601/801/1201 反應離子刻蝕機(RIE）
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 北京中科復華科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 DISC-RIE-601/801/1201
- 產地 北京
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2024/4/7 8:53:27
- 訪問次數 127
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應用方向：科研與教學
產品優勢：刻蝕速率控制方便，耐氯基強腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）
產品配置：
★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸
★刻蝕材料：包括并不限于單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等
★刻蝕腔體：高真空系統
★Load-Lock：低真空系統 或 高真空系統。雙片裝，樣品自動運送。
★刻蝕不均勻性：±3%-±6%
★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）
★工作臺：可升降，包含水冷
★電源配置：下電偏壓，包含自動匹配
★氣路數量與種類：6路氣路，其中2路耐腐蝕VCR焊接 或 用戶選配
★He冷背吹系統：可選配
★終點檢測控制：可選配質譜儀
★操作模式：全自動+半自動控制
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