M+100-E 濕法腐蝕機
參考價 | ¥2000000.00 |
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 西安愛姆加半導體有限公司
- 品牌其他品牌
- 型號M+100-E
- 所在地西安市
- 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
- 更新時間2024/3/8 11:21:02
- 訪問次數(shù) 89
規(guī)格
200 | 2000000.00元 | 1 件可售 |
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主要用途:
用于IC生產(chǎn)及元器件生產(chǎn)中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石、塑料等附件器皿的污染物。廣泛用于拋光片、擴散前、CMP后、氧化前及光刻后等關(guān)鍵工藝的清洗
型號:M+-E150
主要用途:
用于IC生產(chǎn)及元器件生產(chǎn)中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石、塑
主要用途:
用于IC生產(chǎn)及元器件生產(chǎn)中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石、塑料等附件器皿的污染物。廣泛用于拋光片、擴散前、CMP后、氧化前及光刻后等關(guān)鍵工藝的清洗
型號:M+-E150
主要用途:
用于IC生產(chǎn)及元器件生產(chǎn)中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石、塑