M+200-CC 晶圓清洗機(jī)
參考價(jià) | ¥30000-¥1200000/臺(tái) |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 西安愛(ài)姆加半導(dǎo)體有限公司
- 品牌其他品牌
- 型號(hào)M+200-CC
- 所在地西安市
- 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間2024/3/8 9:54:00
- 訪問(wèn)次數(shù) 68
產(chǎn)品標(biāo)簽
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APM1#液去表面顆粒及金屬雜質(zhì)
HPM2#液去金屬粒子
SPM3#液,去污及部分金屬
DHF去氧化層和金屬粒
.適應(yīng)方形基片尺寸:8×8inch基片 用途:可用于掩膜版表面污染物的清除。
清洗方式:是由電機(jī)通過(guò)夾持機(jī)構(gòu)帶動(dòng)掩膜板做離心式旋轉(zhuǎn)。
?配合常壓水清洗
?高壓水清洗
?兆聲波清洗
?毛刷(Brush)清洗
?有機(jī)溶劑清洗等方式子水沖洗
清洗腔體材質(zhì):不銹鋼材料的套件,腔體便于實(shí)現(xiàn)氣液有效分離,提高了清洗的潔凈度;拾取方式:上下載片采用手動(dòng); 掩膜板的固定方式:通過(guò)多點(diǎn)支撐、四角夾緊、機(jī)械安全限位的方式