Osiris勻膠機

用于處理單晶圓的系統，具有用于半導體和微系統技術的定制基板加工選項。

旋涂機 - CCP

設計用于以下應用：

帶蓋卡盤處理器 （CCP） 的旋轉涂層

1.UNIXX S760+

（21x21 英寸）獨立系統

用于大型基材的旋涂機。

2.UNIXX SA30+

（?300毫米）獨立系統

帶蓋卡盤旋涂機。（單底座）

3. UNIXX SHp22+

（直徑200mm）獨立系統

有蓋卡盤旋涂機和加熱板模塊。

旋涂機 - 開式轉鼓

設計用于以下應用：

帶開口碗的旋轉涂層，用于標準涂層。

1.UNIXX SA30

（?300毫米）獨立系統

開式轉鼓旋涂布機。（單底座）

2. UNIXX SHe22

（直徑200mm）獨立系統

開碗旋涂機和加熱板模塊。