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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>制樣/消解設備>離子濺射儀>KT-Z1650PVD 直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜

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KT-Z1650PVD 直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜

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鄭州科探儀器設備有限公司是集開發、制造、經營為一體的材料創新型企業,如今公司的產品已經遍布國內大多數實驗室 及*校,科探儀器已經成為老師 同學歡迎和信任的品牌之一

公司以科技創新為主,服務社會為宗旨,積極設計開發新型材料制備設備,奉獻于教育和科學,經過長期的研發和不斷地技術積累,擁有熱工,制造,控制相關技術10余項,為化學,物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發領域的科學研究提供了精良設備。公司通過和院校老師 同學強強聯合,形成了有效的信息,技術交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持!。

目前公司已研發生產產品十多個系列幾十款產品,產品囊括實驗電爐、CVD供氣系統、等離子清洗機、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。

公司與國內高校,科研院所有多層次的合作關系,建有開放實驗室,相關領域的教授、高級工程師、博士參與公司產品的研究和開發。我們秉承公司的發展理念,依靠嚴謹的技術研發能力,科學合理的生產工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產品質量和服務工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設備 真空設備 儀器儀表 電子元器件 五金交電實驗室設備安裝

靶材材質 金 鉑 銅 銀 等 靶材尺寸 50mm
產地類別 國產 價格區間 面議
濺射氣體 根據需求通氣 控制方式 觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸 φ160x160mm 樣品臺尺寸 50mm
應用領域 綜合

直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜,7寸人機界面,自動手動模式切換控制,最大功率1000w直流磁控濺射

單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等

單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。

所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據實驗需求也可以選配其他規格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。

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直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜技術參數;

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口






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