【外形尺寸】：1040*670*830mm

【工作臺范圍】：X：280；Y：280；Z：80（mm）

【間隙控制精度】：2μm

【max速度】：0-60（X軸）、0-70（Y軸）、0-40（Z軸）mm/s

【平臺加熱溫度】：室溫-150℃

【溫度偏差】：±2℃

【平臺平面精度】：±5μm（100mm）

【溶劑體系】：水性、油性、有機溶劑等

【適用基材】：玻璃、PET、CPI、金屬箔等柔性基材

【基材固定方式】：真空吸附

【驅動方式】：步進電機+伺服電機+進口研磨級絲桿

【控制方式】：觸控屏控制

【涂布工藝】：狹縫涂布、超聲噴涂、刮刀刮涂、線棒輥涂

【涂布厚度】：0.05-20μm（干膜厚度）   視涂布工藝和油墨而定

【涂布寬度】：10-150mm                      選配

【涂布條數】：1-10                                根據選用涂布頭而定

【狹縫頭唇口線度】：≤3μm                    可自由設定涂布條數

【液體粘度】：≤1500cps     

【特點】：模塊化設計，集成集狹縫涂布、刮刀刮涂、線棒刮涂、超聲噴涂工藝，實現不同涂布功能的切換；

                 按需供墨，狹縫涂布墨水用量低，減少浪費和污染；

                 大尺寸觸控屏控制，自定義涂布過程，便于開展涂布工藝研究；

                 關鍵部件（狹縫涂布頭、PLC控制部分、伺服電機、研磨級絲桿等）采用國外進口，保證系統精度及設備可靠性；

                 可按用戶要求集成真空加熱系統、自動測距系統，CCD成像系統等；

                 各類桌面級設備已應用于國內高校、科研機構及各類研發中心。

【適用范圍】：針對納米及亞微米級功能性涂層的涂布試驗、墨水調試、工藝研究、小規模制樣研發等；

                        涉及行業包括水凝膠、液態金屬、智能包裝材料、光電材料、光刻膠、功能涂層、微電子及半導體封裝等大面積涂布制備，以及氫燃料電池、電解水制氫、鋰電池、異質結太陽能電池、薄膜太陽能電池、鈣鈦礦太陽能電池、有機太陽能電池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、電子皮膚等器件的制備。

【亮點】：集合狹縫、刮刀、線棒、超聲工藝于一體；

                 模塊化設計，便于工藝研究。