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化工儀器網>產品展廳>測量/計量儀器>表面測量儀器>粗糙度儀>customized 超景深顯微鏡

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customized 超景深顯微鏡

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

產地類別 進口 應用領域 綜合

一、產品概述:

超景深顯微鏡是一種先進的光學顯微鏡,能夠在較大深度范圍內獲得清晰的圖像,適用于觀察復雜樣品的三維結構。它通過特殊的成像技術,提供比傳統顯微鏡更深的景深,廣泛應用于生命科學、材料科學和工業檢測等領域。

本套系統主要用于材料表面形貌的觀察;平面或三維測量。可采用3D觀測模式,對被測物形狀,粗糙度,表面積等進行測量,可以做高度,寬度,橫截面,角度,R值,表面積,體積,線粗糙度,面粗糙度等的測量分析。同時可以做材料斷口、金相的觀測,陶瓷,微流道,微加工,現代加工制造,MEMS研究,微納制造等。

二、設備用途/原理

·設備用途

超景深顯微鏡主要用于生物樣品、材料表面及微結構的觀察和分析。常見應用包括細胞形態學研究、材料缺陷檢測、電子元件的分析等。它能夠幫助研究人員更好地理解樣品的三維特性,提高分析的準確性和效率。

·工作原理

超景深顯微鏡采用多焦點成像技術,通過獲取多個焦平面上的圖像,并利用圖像處理算法合成出一個具有更大景深的清晰圖像。這種方法允許用戶在一個圖像中同時觀察到樣品的多個層次,消除了因焦平面限制而導致的細節丟失。通過這種技術,用戶可以更全面地分析樣品的微觀特征,提升觀察效果。

三、主要技術指標:

1. 光源類型:≤404nm半導體激光

2. X/Y方向測量顯示分辨率:1nm

3. Z向測量顯示分辨率:0.5 nm                  

4. 面掃描速度:≥125Hz、線掃描速度:≥7900Hz          

5. 角度特性:穩定測量傾角≥87.1度的斜面

6.XY載物臺電動運行范圍:≥100mm*100mm




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