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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>無掩模光刻機/直寫光刻機>UTA DLP投影技術的無掩膜光刻機

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UTA DLP投影技術的無掩膜光刻機

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上海旭量光學技術有限公司專研于光電產品系統集成。。堅持在光電領域前沿的不斷探索,公司不僅為用戶引進原廠生產的各類標準產品,而且致力于根據用戶的新需求,探索提供完整的系統解決方案,包括研發設計、生產、集成和二次開發等,努力為客戶提供專業、優質的服務。

我們堅持致力于高質量科研產品的推廣工作,在飛秒激光器及飛秒微納加工,超快時間分辨光譜及成像等超快領域擁有專業、全套的解決設備及方案。現設有北京,杭州、深圳三個分公司和售后服務中心。 主要科研產品:微納飛秒激光加工系統、激光加工過程監測系統;一體化飛秒激光器及納秒激光器、皮秒激光器、超連續白光光源;科研級深度制冷CCD、sCMOS、ICCD、EMCCD、


飛秒激光加工系統

UTA產品簡介

顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。

使用金相顯微鏡和LED光源DLP投影儀,將具有機微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進行曝光。

圖案可以在PC上自由創建。

因為可以在普通的室內環境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極,所以它比電子束光刻便宜且簡單,不需要制造昂貴的電極圖案掩膜板。


技術參數

  •    由于顯微鏡和DLP的結合,可以用很低的成本來構建系統;
       易于使用的軟件可以輕松的創建曝光圖案;
       通過物鏡放大倍率圖案,可以進行大范圍的批量曝光;
       可以連接到您自己的顯微鏡上(選項);
       分辨率在微米級,最小刻度1um。
       曝光范圍:可達2.5mm×1.5mm    最小100um×60um


應用案例

薄膜FET和霍爾效應測量樣品的電極形成。

從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性。

研發應用的圖案形成。

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光刻前的模擬(紅光)

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白光刻蝕(可設置時間)


相關論文:

Damage-free LED lithography for atomically thin 2D material devices」


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