公司簡介:
蘇州華維納納米科技有限公司是在"蘇州工業園區創業人才項目"的支持下，于2011年注冊成立的高科技創新型公司，公司由歸國和國內的高層次人才組成，公司設有博士后流動站。公司曾先后獲得國家科技部（國家重大大科學儀器設備開發專項)和姑蘇、江蘇省雙創人才、以及蘇州x-nano大科學裝置等項目支持，并于2012年6月 完成首輪風險融資，并成功研發出擁有自主知識產權的三大系列新型納米激光光刻系統，2015年被認定為高新技術企業。
公司近年來，不斷加大研發力度，已經定型了LDW-P 和LDW-L兩大系列新型激光直寫設備，實現了激光直寫設備的更新換代。該新型激光直寫采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。
無掩模納米光刻系統，激光直寫設備
| 應用領域 | 化工 | 激光波長 | 405nm |
|---|---|---|---|
| 特征尺寸 | 100nm | 激光功率 | 120mW至300mW（可選） |
| 刻寫范圍 | 1000umx1000um |
HWN-P1500-1000新型納米激光直寫系統是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統，根據壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結構緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結構及器件制造、材料工藝探素和小規模生產。該系列產品還可根據用戶特殊需求，提供定制設計和制造。
新概念技術：華維納LDW-P系列通過激光與材料的非線性相互作用，成功突破了光學衍射極限的限制，實現了納米尺度的加工分辨力，最小的孔洞直徑可達50nm。
多受體材料：華維納LDW-P系列通過高精度的功率調制（＜1‰），可兼容包括金屬薄膜、無機相變材料、光刻膠等多種受體材料。
可靠易用性：華維納LDW-P系列擁有強大的軟件功能，支持標量刻寫、矢量刻寫等多種刻寫模式，供用戶根據不同的刻寫場景而選擇。另外，LDW-P系列還支持樣品刻寫后的在線分析，使用戶一站式完成設計、刻寫、分析等步驟， 大大提高了工作效率。
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