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化工儀器網>產品展廳>光學儀器及設備>光學成像設備>高光譜儀/高光譜成像儀> GaiaMicro系列顯微高光譜系統

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GaiaMicro系列顯微高光譜系統

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江蘇雙利合譜科技有限公司是一家集光學、精密機械、電子、計算機技術于一體的高科技企業, 聚焦機械推掃式及液晶可調濾光片式兩大類高光譜測量技術,為廣大客戶提供門類齊全的高光譜系統解決方案。公司的相關產品,在國內高光譜應用市場,已經成功服務于農業遙感、工業分選、刑偵物證鑒定、環境保護、地質勘探、考古研究、食品檢測等領域。

公司始終堅持優質高效為客戶開發產品及提供技術支持的營運宗旨,為用戶提供及時周到的銷售與技術服務。公司真誠地希望與國內外客戶攜手合作,為進一步拓展高光譜測量系統在科研及工業生產領域的迅猛發展繼續做出貢獻。

 

公司文化:
企業的發展理念:共同進步,共同發展
公司與員工共同組成的大家庭,讓每一位員工在付出貢獻的同時,一起分享公司不斷發展壯大的喜悅。
公司與客戶緊密合作,實際解決客戶在工作過程中碰到的問題,結合我們本地化的研發銷售團隊,提供無縫支持。在高光譜應用領域,與我們的客戶一起成長。


企業的經營理念:科技創新、優質服務
科技創新是高科技企業持續發展的發動機,在高光譜的前沿應用領域,我們將科技進步、研發創新作為企業生存的根本,以保證我們始終走在高光譜產品的前端。優質的服務為客戶提供在不同產業新的發展機遇,讓客戶能夠從高光譜技術中獲益。


企業的質量方針:客戶至上,質量優先
客戶是企業的生存之本、發展之源。顧客是我們的衣食父母,沒有顧客的支持,一切都將無從談起。因此,只有為客戶提供了滿意的服務,公司才有生存和發展的機會,而對于客戶而言產品、服務質量又是其較為關注的,所以對于每一個企業來說,質量永遠是企業的生命。品質只有更好,而企業管理的切入點永遠就是品質,品質是制造出來的,不是檢驗出來的,建立全員的品質意識,人人抓品質,處處抓品質,品質管理才能不斷改善,持續改進。

 

 

 

高光譜,高光譜成像儀,高光譜相機,機載高光譜,光譜系統

成像方式 濾光片型 工作原理 濾光片型
價格區間 面議 使用狀態 機載
應用領域 環保,化工,能源,電子

GaiaMicro系列顯微高光譜系統

原理介紹:

顯微高光成像系統能提供的高光譜格式的顯微圖像及光譜信息,通過數據處理分析等進而挖掘在微觀狀態下的更多細節信息。不同類型的顯微鏡在景深、視場平坦度、清晰度、消色差、抑制雜散光等方面的具有明顯的優勢特性,同時再結合高光譜推掃成像的技術特點,二者緊密結合則會充分展現出顯微高光譜成像系統的*性能。為科研、醫療、食品安全等行業的研究和應用提供的檢查手段。

● 軟件精準調焦、自動曝光、自動匹配掃描速度

● 反射率校準、均勻性校準、區域校準、輻射度校準等
● 二維精密電控平移機構
● 多種成像方式并存(內置或外置掃描成像)
● 高空間分辨率和光譜分辨率
● 寬光譜范圍的顯微成像應用
● 大面積顯微目標成像(拼接)
● 支持明場、暗場測試應用
● 多種光源可選(汞燈、鹵素燈、LED等)
● 支持顯微熒光應用
● 顯微鏡(金相顯微鏡、體式顯微鏡、生物顯微鏡、熒光顯微鏡)
● 廠家類型(奧林巴斯、尼康、舜宇、蔡司、Thorlabs等)

基本結構:

基本結構基本上分為以下5種方式:
GaiaMicro系列顯微高光譜系統是將推掃型高光譜相機與顯微鏡結合,構成顯微高光譜系統的主體,再借助顯微鏡的光路系統、不同倍率的物鏡(可見)、不同倍率的反射物鏡(紅外)以及二維電控掃描平臺來實現的。
● 可見-近紅外顯微系統采用通用型的顯微光路結構,在不同放大倍率物鏡下,可以清楚的觀察、采集到相應的顯微高光譜數據,系統采用內置二維平移機構,X軸為圖像掃描軸,Y軸為調焦軸,實現自動曝光、軟件對焦等流程。
● 基于近紅外(紅外二區)顯微系統采用特殊紅外型的顯微光路結構,大功率的溴鎢燈輸出光源能夠滿足光譜響應范圍,內部設計有精密電控平移機構,采用推掃成像的方式來獲取顯微高光譜數據,可對數據進行校準。
● 短波近紅外顯微系統采用特殊紅外型的顯微光路結構,大功率的溴鎢燈輸出光源能夠滿足光譜響應范圍,高光譜相機靜止不動,通過控制外置二維平移機構的掃描運動來完成圖像的采集,通過特殊設計的光路結構,可以實現全透、半透半反模式的光路結構,通過目鏡來觀察,借助手動調焦旋鈕和采集軟件來完成整個系統的焦距調試。
● 熒光顯微成像系統采用高靈敏度探測器搭配生物顯微鏡完成對目標的熒光高光譜信息的獲取。以紫外燈(或者LED)等作為光源,用以照射被檢物體,使之發出熒光,然后在顯微鏡下觀察物體的形狀及其所在位置。用于研究細胞內物質的吸收、運輸、化學物質的分布及定位等。細胞中有些物質,如葉綠素等,受紫外線照射后可發熒光;另有一些物質本身雖不能發熒光,但如果用熒光染料或熒光抗體染色后,經紫外線照射亦可發熒光,熒光顯微鏡就是對這類物質進行定性和定量研究的工具之一。

GaiaMicro系列顯微高光譜系統主要技術參數

型號

GaiaMicro-V10E-LW

GaiaMicro-V10E-LU

GaiaMicro-V10E-HR

GaiaMicro-V10E-DY

GaiaMicro-N17E-XE

GaiaMicro-N17E-HR

光譜范圍

400-1000nm

400-1000nm

400-1000nm

400-1000nm

900-1700nm

900-1700nm

光譜分辨率

2.8nm

2.8nm

2.8nm

2.8nm

5nm

5nm

光譜采樣率

0.7nm

0.7nm

0.5nm

0.5nm

3.5nm

1.8nm

數值孔徑

F/2.4

F/2.4

F/2.4

F/2.4

F/2.0

F/2.0

狹 縫 尺 寸 ( 寬 *長)

 30µm*14.2mm

 30µm*14.2mm

 30µm*14.2mm

 30µm*14.2mm

 30µm*14.2mm

 30µm*14.2mm

探測器

CCD

CCD(Cooled)

CCD

SCMOS

InGaAs(TE3 Cooled)

InGaAs(Cooled)

像素數(空間維*光譜維)

 1392*1040

 1392*1040

 1936*1456

 2048*2048

 320*256

 640*512

光譜通道數

1X:1040 2X:520

4X:256 8X:128

1X:1040 2X:520

4X:256 8X:128

1X:1456 2X:720

4X:360 8X:176

1X:2048 2X:1024

4X:512 8X:256

 256

 512

數據輸出

14 bits

14 bits

14 bits

16 bits

14 bits

14 bits

連接方式

USB 2.0

USB 2.0

USB 2.0

USB3.0

USB2.0/Gige

USB3.0/Gige

 

物鏡

平場無限遠長工作
距消色差金相物鏡
( 5 x 、 10 x 、 20 x 、50x);100x (選配)

平場無限遠長工作
距消色差金相物鏡
(5 x 、10 x 、20 x 、50x);100x (選配)

平場無限遠長工作
距消色差金相物鏡(5x、10x、20x、50x);100x (選配)

平場無限遠長工作
距消色差金相物鏡(5x、10x、20x、50x);100x (選配)

反射式物鏡:10X、40X(標配);
選配:20X、30X
透射式物鏡:
10X/20X/30X/40X(選配)

反射式物鏡:10X、40X(標配);
選配:20X、30X
透射式物鏡:
10X/20X/30X/40X(選配)

顯微系統 ( 標 配金相系列顯 微鏡系統 , 滿 足透 、 反射測 試光路應用)

無限遠色差校正光學系統10X目鏡30°傾斜,無限遠鉸鏈三通觀察筒,瞳距調節:54mm~75mm,單邊視度調節:±5屈光度,兩檔分 光比R:T=100:0或50:50
物鏡轉換器:內定位五孔轉換器;
攝影攝像附件:1X;

 

注:其它品牌如奧林巴斯、蔡司的生物、熒光、金相顯微鏡均可進行高光譜相機搭載,具體可與我司人員聯系。

系統照片

模塊化、一體式、綜合型應用系統,滿足不同應用需求。

圖 與顯微共聚焦拉曼系統聯用測試暗場散射(金納米顆粒)

圖 生物醫學檢測應用

成像鏡頭

可見-近紅外消色差物鏡

半復消色差金相物鏡(適合可見-近紅外波段、明/暗場應用)

放大倍率

5X

10X

20X

50X

100X

規格型號

HSIA-OIPBDFL5X

HSIA-OIPBDFL10X

HSIA-OIPBDFL20X

HSIA-OIPBDFL50X

HSIA-OIPBDFL100X

波長(nm)

350-1000nm

350-1000nm

350-1000nm

350-1000nm

350-1000nm

數值孔徑(NA)

0.15

0.30

0.50

0.80

0.90

工作距離WD(mm)

13.50(mm)

9.00(mm)

2.50(mm)

1.00(mm)

1.00(mm)

備注:

特殊需求可以溝通確認。

無限遠校正的可見- 近紅外成像顯微物鏡可提供5 倍、10 倍、20 倍、50 倍、100 倍的放大倍率。高數值孔徑(NA) 和高放大倍率,非常適合聚焦或準直光學的應用。在整個可見- 近紅外光譜范圍內具有衍射極限性能,具有平坦的視場且對可見光譜中的兩個波長進行了像差校正,因此具有更好的球差和色差校正以及高的視場平整度,消色差物鏡鍍有超寬帶增透膜,非常適用于成像應用。另外,其能夠把光聚焦成一個衍射極限光斑,可將單色光等有效耦合到波導或光纖中, 為明場、暗場顯微鏡成像提供了出色的性能

反射物鏡

反射鏡構成的物鏡,由于沒有玻璃色散引起的色差的影響,可以用于350nm ?7μm 的寬波長范圍,可以用于顯微分光或半導體的故障解析。使用安裝在鏡筒正中間的調節環,可以改變鏡筒長度。通過調整,可以用于鏡筒長為80mm 到無限遠的各種顯微鏡筒。

由于反射鏡的鋁膜上鍍有MgF2 保護膜,反射鏡不易老化,可以長期使用。物鏡的安裝螺紋采用JIS 標準的M20.32(P=0.706),可以安裝在很多顯微鏡的鏡筒上。由于可見光,紫外光和紅外光的焦點位置或像的大小沒有差異,不可見光的像和可見光的像可以準確地重合在一起。

反射式紅外物鏡(適合可見-長波紅外波段應用)

放大倍率

10X

20X

30X

40X

規格型號

HSIA-OLESMICRO-10

HSIA-OLESMICRO-20

HSIA-OLESMICRO-30

HSIA-OLESMICRO-40

適用波長

350nm~7μm

350nm~7μm

350nm~7μm

350nm~7μm

焦距f(mm)

19.9mm

10mm

6.7mm

5mm

數值孔徑(NA)

0.2

0.35

0.41

0.49

視場(mm)

φ1.0mm

φ0.5mm

φ0.34mm

φ0.25mm

工作距離 WD(mm)

16mm

7mm

5mm

3.5mm

機械鏡筒長(mm)

80~∞(可変)

80~∞(可変)

80~∞(可変)

80~∞(可変)

遮光率

約36%

約36%

約36%

約36%

透射式紅外物鏡

提供具有5X、10X、20X、50X 放大倍率的三豐平場復消色差物鏡,無色差平坦視場,工作波長范圍480nm-1800nm。長工作距離使得透鏡表面和物體之間具有寬間距,使其非常適用于機器視覺應用。每個物鏡刻有等級、放大率、數值孔徑、波長范圍、數字0( 說明用于無蓋玻片的樣品成像) 和放大倍數的有效套筒透鏡焦距。

 

透射式紅外物鏡(適合可見-近紅外二區波段應用)

放大倍率

5X

10X

20X

50X

規格型號

HSIA-MY5X

HSIA-MY10X

HSIA-MY20X

HSIA-MY50X

波長(nm)

480-1800nm

480-1800nm

480-1800nm

480-1800nm

數值孔徑(NA)

0.14

0.26

0.40

0.42

工作距離WD(mm)

37.5(mm)

30.5(mm)

20.0(mm)

17.0(mm)

焦距f(mm)

40(mm)

20(mm)

10(mm)

4(mm)


 

 

 

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