光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
供貨周期 | 一個月 | 應用領域 | 電子 |
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主要用途 | 光刻工藝用的化學品 |
負性光刻膠 (SU-8)-光刻機用
SNR負性光刻膠,針對微機械加工微電子應用,高對比度,環氧樹脂類負性光刻膠。
具有垂直側壁的高縱橫比成像
近紫外(350-400nm)處理
單旋涂膜厚度為1.5至200µm
高度耐化學性和耐溫度性
與已建立的SU-8光刻工藝兼容
微機械加工微電子應用
高對比度環氧樹脂負片光刻膠
具有垂直側壁的高縱橫比成像
近紫外(350, 400nm)處理
單層旋涂膜厚度為0.5至200µm
高度耐化學性和耐溫度性
兼容既定的SU8光刻工藝
負性光刻膠 (SU-8)-光刻機用
ENPR Series | Viscosity (cP) | Thickness (um) | Exposure Energy (mJ/?) |
C5 | 53 | 4 - 8 | 100 - 120 |
C7 | 165 | 6 - 13 | 110 - 125 |
C10 | 455 | 9 - 21 | 120 - 140 |
C15 | 1500 | 13 - 46 | 125 - 180 |
C25 | 5490 | 18 - 70 | 135 - 200 |
C50 | 15900 | 40 - 155 | 165 - 295 |
C75 | 27200 | 60 - 240 | 190 - 360 |