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全自動離子濺射儀

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濺射儀噴金儀

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      江蘇雷博科學儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以 高檔專業的實驗室儀器開發為目標的海歸創業企業。公司主營高檔實驗室儀器及半導體設備開發業務。公司技術 力量雄厚,人才濟濟,憑借雄厚的技術實力不斷進行新產品開發和創新實現, 在納米薄膜制備類儀器領域取得了顯著的市場地位。公司生產的高精度高可 靠性勻膠機榮獲江蘇省高新技術產品,是國內勻膠機全系列、多功能、定制 化服務的供應商

      公司生產和銷售不同領域的高檔科研儀器和工業半導體設備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、 烤膠機、提拉機、噴膠機、涂膜機、狹縫涂布機等相關產品;L EB O science®是我們的工業半導體設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、蝕刻機、 去膠機、清洗機等獨立柜式機臺及工業全自動機臺。 公司產品被廣泛應用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能、有機光 電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導體及先進封裝等領域,具有核心技 術可靠、高性價比、定制化服務的競爭優勢。

 

勻膠機、顯影機、烤膠機、刻蝕機、清洗機

產地類別 國產 價格區間 5萬-10萬
控制方式 觸屏控制 樣品倉尺寸 直徑150mm*高度130mmmm
樣品臺尺寸 直徑55mmmm 應用領域 化工,生物產業,能源,電氣,綜合
  全自動離子濺射儀工作原理:
 
  直流冷陰極二極管式,靶材處于常溫,加負高壓1-3kv,陽極接地。當接通高壓,陰極發射電子,電子能量增加到1-3kev,轟擊低真空中(3-10pA)的氣體,使其電離,激發出的電子在電場中被加速,繼續轟擊氣體,產生聯級電離,形成等離子體。離子以1-3kev的能量轟擊陰極靶,當其能量高于靶材原子的結合能時,靶材原子或者原子簇,脫離靶材,又經過與等離子體中的殘余氣體碰撞,因此方向各異,當落在樣品表面時,可以在粗糙的樣品表面形成厚度均一的金屬薄膜,而且與樣品的結合強度高。如果工作室中的氣體持續流動,保持恒定壓力,這時的離子流保持恒定。高壓的功率決定了最大離子流,一般有最大離子流限制,用于保護高壓電源。
 
  全自動離子濺射儀的操作:
 
  一般工作距離可調,距離越近,濺射速度越快,但熱損傷會增加。
 
  離子流的大小通過控制真空壓力實現,真空度越低,I越大,濺射速度越快,原子結晶晶粒越粗,電子轟擊樣品(陽極)產生的熱量越高;真空度越高,I越小,濺射速度越慢,原子結晶晶粒越細小,電子轟擊樣品產生的熱量小。
 
  加速電壓為固定,也有可調的,加速電壓越高,對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區域。
 
  有些熱敏樣品,需要對樣品區進行冷卻,水冷或者帕爾貼冷卻;也可以采用磁控裝置,像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品。經過這樣的改造,當然會增加很高的成本。可以在石蠟表面濺射一層金屬,而沒有任何損傷!
 
  真空中的雜質越多,鍍膜質量越差。一般黃金比較穩定,可以采用空氣作為等離子氣源,而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。
 
  氣體原子序數越高,動量越大,濺射越快,但晶粒會較粗,連續成膜的膜層較厚。
 
  保持真空室的潔凈對高質量的鍍膜有很大好處。
 
  不要讓機械真空泵長期保持極限真空,否則容易反油。


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