Super Lithography 3D 納米光刻系統提供納米級高精度的無掩膜光刻和納米級3D 微納結構打印，配合定制的軟件系統，可以智能完成高精度無掩膜光刻的制造和其它納米級 3D 器件的激光直寫光刻。

津鐳光電主要業務集中于超快微納加工（三維光量子芯片制備、布拉格光纖光柵、硬脆材料鉆孔切割）、超快泵浦探測、實時成像及器件光譜響應測試等系統搭建和光電產品銷售兩方面業務。

主要系統：飛秒激光直寫系統、無掩膜光刻系統、光場調控系統、太赫茲產生系統、光場時空整形系統、光譜響應測試系統與二維材料剝離系統；光電產品：飛秒/皮秒激光器、激光光源、光學元件、光學機械、光學平臺與精密運動位移臺等光電產品。