產地類別 | 國產 | 純水水質 | 三級純水器 |
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電阻率 | 18.25MΩ·CM | 價格區間 | 5萬-10萬 |
顆粒物(>0.1μm) | 0.5μm | 熱源/內毒素 | 0.02EU/ml |
微生物 | 0.01cfu/ml | 儀器種類 | 超純水儀 |
應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,生物產業,電子 | 重金屬離子 | 0.1ppm |
總有機碳(TOC) | 50ppb | 產地 | 上海 |
鏡片清洗超純水設備光學鏡片清洗主要包括鏡片、眼鏡框、玻璃器皿等清洗,為了保證清洗效果,不會有雜質殘留,需要使用高標準的清洗用水,光學鏡片清洗用超純水設備是一套于該行業清洗的設備,采用*的制水技術,保證出水水質符合光學鏡片清洗用水標準。
光學鏡片清洗超純水要求:
加工中,鏡片的清洗主要是指鏡片拋光后殘余拋光液、黏結劑、保護性材料的清洗;鏡片磨邊后磨邊油、玻璃粉的清洗;鏡片鍍膜前手指印、口水圈以及各種附著物的清洗。傳統的清洗方法是利用擦拭材料配合化學試劑采取浸泡、擦拭等手段進行手工清擦。這種方法費時費力,清潔度差,顯然不適應現代規模化的光學冷加工行業。這迫使人們尋找一種機械化的清洗手段來代替。于是清洗技術逐步進入光學冷加工行業并大顯身手,進一步推動了光學冷加工業的發展。
清洗技術的基本原理,大致可以認為是利用產生的巨大作用力,在洗滌介質的配合下,促使物質發生一系列物理、化學變化以達到清洗目的的方法。清洗就是在液體清洗介質中,利用產生的巨大能量,通過物理、化學的綜合作用而達到洗凈目的的一種洗凈手段。
鏡片清洗超純水設備工藝:
1.反滲透+混床制取鏡片清洗用超純水
反滲透+混床超純水系統的產水電阻率達到1-15兆姆25℃,采用雙極混床可達電阻率達到15-18兆歐姆25℃,應用領域十分廣泛。反滲透加混床超純水系統是利用反滲透系統除去水中95-97%以上的離子雜質,再用后級混床精處理,除去水中剩余離子,產水水質電阻率一般達到1-15兆歐姆25℃反滲透與混床的結合,有著設備投資省,運行成本低,管理維護方便等特點。
2.反滲透+EDI制取鏡片清洗用超純水
采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備進行搭配的的方式,這是一種制取超純水的工藝,也是一種環保,經濟,發展潛力巨大的超純水制備工藝,其基本工藝流程為:源水(箱)→原水泵→機械過濾器→活性炭過濾器→軟化器(根據水的硬度來選用)→精密過濾器→反滲透→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點
這種方法用來制取超純水的工藝,不需要用酸堿進行便可連續制取超純水,對環境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。
光學鏡片清洗用超純水設備設計優勢:
(1)系統采用新水處理技術雙級RO+EDI+混床模塊化設計,嚴格按新技術設計標準,確保水質穩定,長效運行。
(2)通過專業技術設計,確保系統短時停機及長時間停機時水質保持穩定。
(3)通過專業技術保證終端出水恒壓、水質穩定。
(4)通過完善的技術,大限度的提高系統回收率,降低能耗和運行成本。
(5)采用ESPA2超低壓膜,運行穩定,能耗低。
(6)采用PH調節系統以確保水溫下降或原水PH值偏低時EDI出水水質。