價格區間 | 面議 | 儀器種類 | 飛行時間 |
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應用領域 | 化工,電子,綜合 |
優勢
ULVAC-PHI 最新設計的四極桿-二次離子質譜儀ADPT1010,在原有的PHI6300和PHI6600的基礎上,改善了離子光學系統,是在一次離子能量低至250eV時,仍保持有效的濺射束流的動態二次離子質譜系統(D-SIMS)。
特點
大束流低能量離子槍設計,極大的提高了深度分辨率
高性能離子光學系統,改善了二次離子傳輸效率,在提高分析效率的同時又提高了檢測靈敏度
高精度全自動5軸樣品操控臺
不同方向進入檢測器的二次離子,均可被高靈敏地收集檢測
應用實例分析
采用一次離子源Cs在加速5kV束流為100nA的條件下,分析GaAs中注入的H,C,O元素。可以看到H檢測限值7.1X1016 atm/cm3,O檢測限值4.4X1015 atm/cm3,C檢測限值2.0X1015 atm/cm3。