GVC-2000 磁控離子濺射儀
- 公司名稱 北京格微儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 GVC-2000
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2024/6/3 14:18:39
- 訪問次數 2338
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產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
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應用領域 | 醫療衛生,生物產業,能源,建材,綜合 |
1.GVC-2000磁控離子濺射儀基本無溫升、樣品表面無熱損失
GVC-2000制樣效果圖 其他制樣設備效果圖
上面兩張圖片為濾膜類樣品的電鏡圖片,左側圖片為GVC-2000噴金后的電鏡觀測圖,可以看出,樣品形貌真實完整,右側圖片為其他設備噴金后的電鏡觀測圖片,可以看出,熱損傷嚴重,幾乎無法識別為同種樣品。
濺射儀顆粒更小,更適宜于高倍圖像觀測,適配場發射/高分辨場發射電鏡。
金顆粒尺寸:6~10nm
陶瓷膜,鍍層材料Pt,10萬倍圖片,無顆粒感 濾膜材料,鍍層材料Pt,20萬倍圖片,無顆粒感
技術參數
靶材尺寸: 57mm
樣品臺尺寸: 65mm
樣品倉尺寸: 130×120mm
GVC-2000磁控離子濺射儀特點:
1、儀器采用微處理器控制,自動化程度高精確控制、易于操作;
2、靶材利用率更高,磁控濺射靶材利用率為直流濺射的2倍,為用戶節約靶材費用;
3、金膜顆粒絕大多數<10nm,顆粒更細,均勻度更好,附著力更強,觀測效果更佳;
4、低電壓、較好真空度下的實現大電流濺射,可濺射金、銀、銅、鉑等常用金屬靶材;
5、電子和負離子被磁場束縛在靶材附近,鍍膜過程中基本沒有溫升,適用溫度敏感性樣品;
6、內置用戶使用向導和說明書,方便用戶 操作;內置膜厚估算公式,便于用戶了 解離子濺射儀工作狀態;
7、采用微處理器控制,擴展性能好,可實時顯示真空度、濺射電流、濺射時間、設備運行時間、靶材使用時間等,方便了解設備情況,具備過流、真空保護功能,安全可靠。