GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀內部集成膜厚檢測控制模塊，可精確測量、實時顯示當前鍍膜厚度；精準測量并復現當前試驗結果。

1、采用平面磁控濺射靶頭進行靶材濺射，以確保工作過程樣品不會發生熱損傷；

2、采用單片機作為處理器，全自主知識產權，擴展性好，可選配膜厚監控組件；

3、5英寸觸摸式液晶顯示屏，分辨率為800×480，全數字顯示；

3.1可設定：

（1）濺射電流；

（2）濺射時間；

（3）靶材種類；

（4）工作真空度；

（5）工作氣體；

（6）屏幕亮度等參數。

3.2可顯示：

（1）濺射電流；

（2）濺射剩余時間；

（3）工作真空度；

（4）靶材累計使用時間；

（5）設備累計使用時間等參數。

4、濺射電流：5-45mA連續可調，最小步長為1mA；

5、濺射時長：1-999s連續可調，最小步長為1s；

6、濺射真空：4-20Pa連續可調，最小步長為0.1Pa；

7、濺射靶材：標配為高純金靶（純度4N9），規格為φ57×0.12mm；

8、真空室：采用高透光性的高硅硼玻璃，尺寸約為φ125×125mm；

9、樣品杯：可容納最大樣品杯尺寸為φ90mm；

10、系統提供金、鉑對于空氣和氬氣的工作參數，可直接使用。同時提供3種自定義靶材，用戶可根據自己需求設定工作參數；

11、設定工作真空度后，系統可自動調整至設定值，無需調節針閥；

12、設定濺射電流后，系統可自動調整至設定值，無需其它操作；

13、具備濺射電流和真空度雙重互鎖，安全可靠，任一條件觸發，系統即可停止工作，防止因為誤操作導致設備損壞；

14、極限真空優于1Pa，真空泵抽速為1L/s；

15、具備實時曲線顯示濺射電流和真空度功能非常方便用戶了解系統工作狀態；

16、采用*的靶材更換結構，無需任何工具，即可實現快速更換靶材；

17、操作軟件：內置操作向導，便于操作人員快速熟悉設備，在人員更替時無需廠家培訓即可熟練操作儀器。

GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀技術參數：

1、濺射靶頭采用平面磁控靶設計；

2、系統采用單片機等微處理器控制，全數字顯示；

3、彩色液晶屏顯示，屏幕不小于5英寸；

4、最大濺射電流不小于45mA，最小濺射電流不大于5mA，步進量為1mA；

5、濺射真空度可任意設定，且最小調節量0.1Pa；

6、可存儲不少于5種靶材的工作參數；

7、最長濺射時間不小于600秒；

8、具備電流保護和真空保護功能，在電流過大、真空度較差時保證設備安全；

9、極限真空優于1Pa；

10、可實時顯示靶材使用時間和設備工作時間；

11、可用實時曲線顯示濺射電流和真空度。