產地類別 | 進口 | 應用領域 | 電子 |
---|
EVG 850 Automated Production Bonding System for SOI
EVG 850 SOI的自動化生產鍵合系統
自動化生產鍵合系統,適用于多種融合/分子晶圓鍵合應用
技術數據
SOI晶片是微電子行業有望生產出更快,性能更高的微電子設備的有希望的新基礎材料。晶圓鍵合技術是SOI晶圓制造工藝的一項關鍵技術,可在絕緣基板上實現高質量的單晶硅膜。借助EVG850 SOI生產粘合系統,SOI粘合的所有基本步驟-從清潔和對準到預粘合和紅外檢查-都結合了起來。因此,EVG850確保了高達300 mm尺寸的無空隙SOI晶片的高產量生產工藝。 EVG850是在高通量,高產量環境下運行的生產系統,已被確立為SOI晶圓市場的行業標準。
特征
生產系統可在高通量,高產量環境中運行; 自動盒帶間或FOUP到FOUP操作
無污染的背面處理; 超音速和/或刷子清潔
機械平整或缺口對齊的預粘合; 先進的遠程診斷
技術數據
晶圓直徑(基板尺寸):100-200、150-300毫米
全自動盒帶到盒帶操作
預粘接室
對齊類型:平面到平面或凹口到凹口
對準精度:X和Y:±50 µm,θ:±0.1°
結合力:zui高5 N
鍵合波起始位置:從晶圓邊緣到中心靈活
真空系統:9x10-2 mbar(標準)和9x10-3 mbar(渦輪泵選件)
清潔站
清潔方式:沖洗(標準),超音速噴嘴,超音速面積傳感器,噴嘴,刷子(可選)
腔室:由PP或PFA制成(可選)
相關分類
該廠商的其他產品
- SOI and Direct Wafer Bond 晶圓鍵合機
- EVG 810LT Plasma Activa 晶圓鍵合機
- TRYMAX 干法清洗等離子清洗機
- GEMINI FB Wafer Bonding GEMINI FB 自動化生產晶圓鍵合系統
- SOI and Direct Wafer Bond EVG 850LT SOI和直接晶圓鍵合系統
- EVG 810LT Plasma Activa EVG 810LT LowTemp 等離子激活系統
- EVG 320 Wafer Cleaning EVG 320 自動化單晶圓清洗系統
- EVG 301 Wafer Cleaning EVG 301 單晶圓清洗系統