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TESCAN MIRA 場發(fā)射掃描電鏡

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 冠乾科技(上海)有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2021/9/7 11:15:11
  • 訪問次數(shù) 1161

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冠乾科技Grant Technology 有限公司創(chuàng)立于中國上海。 公司為用戶提供先進(jìn)可靠的設(shè)備及、

儀器技術(shù),為客戶把握工藝過程,得到優(yōu)質(zhì)的結(jié)果而服務(wù)。
Grant是“授予”的意思,希望公司能夠成為一個平臺,以用戶能夠得到上更新更快的技術(shù)資訊,技術(shù)方案為企業(yè)目標(biāo)。

冠乾科技追求品質(zhì)產(chǎn)品、專業(yè)的應(yīng)用和完善的售后服務(wù),我們是您可以信賴的合作伙伴。

工藝設(shè)備:真空鍍膜機(jī);離子束刻蝕機(jī),ICP刻蝕機(jī),等

產(chǎn)品線豐富,元素分析:原子吸收,氣相色譜,液相色譜,氣質(zhì)聯(lián)用,紫外分光光度計(jì)等; 熱分析:材料表面分析:原子力顯微鏡,光學(xué)輪廓儀,摩擦磨損等;  通用分析:掃描電鏡,

實(shí)驗(yàn)室儀器
原子吸收光譜儀
近紅外光譜儀
紫外分光光度計(jì)
電化學(xué)工作站
紅外光譜儀
鍍層測厚儀
數(shù)字顯微鏡
影像測量儀
Wafer 粗糙度檢測
3D 輪廓儀
超景深顯微鏡
TTV 測試
掃描探針顯微鏡
臺式掃描電鏡

其他儀器:
四探針測試
離子減薄機(jī)

 

原子力顯微鏡,摩擦磨損試驗(yàn)機(jī),超景深顯微鏡,鍍膜機(jī)

價格區(qū)間 面議 儀器種類 場發(fā)射
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電子,交通,航天,電氣

 

TESCAN MIRA 是 TESCAN 推出的第四代高性能掃描電子顯微鏡,配置有高亮度肖特基場發(fā)射電子槍,在TESCAN 的 Essence™ 操作軟件的同一個窗口中實(shí)現(xiàn)了 SEM 成像和實(shí)時元素分析。這種結(jié)合大大簡化了從樣品中獲取形貌和元素?cái)?shù)據(jù)的過程,從而使得MIRA 成為質(zhì)量控制、失效分析和實(shí)驗(yàn)室常規(guī)材料檢測的有效分析解決方案。

TESCAN MIRA 具有創(chuàng)新的光學(xué)設(shè)計(jì),確保在需要時可以隨時無縫地選擇成像或分析條件,而無需對鏡筒內(nèi)的任何元件重新進(jìn)行機(jī)械對中;借助*集成的 Essence™ EDS 軟件,可以快速、輕松地從成像切換到分析操作模式,一鍵即可實(shí)現(xiàn)所有設(shè)置參數(shù)的更改。

主要特點(diǎn)

ü  *集成的 TESCAN Essence™ EDS 分析平臺,可在 Essence™ 軟件的同一個窗口中實(shí)現(xiàn) SEM 成像和實(shí)時元素分析;

ü  TESCAN *的無光闌光路設(shè)計(jì)及實(shí)時電子束追蹤技術(shù)(In-flight Beam Tracing™),可快速獲得成像和分析條件;

ü  *的大視野光路(Wide Field Optics™)設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)最小放大倍率低至2倍,因而無需額外的光學(xué)導(dǎo)航相機(jī),即可輕松、精確的對樣品進(jìn)行導(dǎo)航;

ü  標(biāo)配的 SingleVac™ 模式,不導(dǎo)電樣品或電子束敏感樣品無需噴鍍即可在此模式下直接進(jìn)行觀察;直觀的模塊化 Essence™ 軟件,無論用戶的經(jīng)驗(yàn)水平如何,均可輕松操作;

ü  Essence™ 3D 防碰撞模型,可確保樣品臺和樣品移動時,安裝在樣品室內(nèi)探測器的安全性;

ü  可選配的鏡筒內(nèi) SE  BSE 探測器,以及電子束減速技術(shù),更好的提升了低電壓下的成像性能;

ü  標(biāo)準(zhǔn)分析平臺,可選配集成最多種類的探測器和附件(如陰極熒光探測器,水冷背散射電子探測器或拉曼光譜儀等)。

中間鏡設(shè)計(jì)

MIRA 的鏡筒中增加了一個特殊的透鏡,使得電子束斑尺寸更小,進(jìn)而提升大束流下的分辨率。這個*的透鏡--中間鏡 (Intermediate  Lens™) 結(jié)合電子束追蹤技術(shù)(In-?ight Beam Tracing™),可確保操作者設(shè)定的束流值與真實(shí)作用在樣品上的束流相一致。這對于需要大束流下進(jìn)行的分析應(yīng)用如EDS/EBSD/WDS等,以及必須在相同條件下進(jìn)行重復(fù)實(shí)驗(yàn)或表征的需求尤其重要。



TESCAN MIRA 場發(fā)射掃描電鏡

更多的探測器和附件

TESCAN MIRA  可以安裝各類附件以滿足特定的應(yīng)用需求,同時還可以選配鏡筒內(nèi) SE 和BSE 探測器以及電子束減速技術(shù),進(jìn)一步拓展了 MIRA 的分析能力,滿足當(dāng)前和未來在亞微米尺度的表征需求。選配鏡筒內(nèi) SE 和 BSE 探測器后,即可同時獲得包括樣品室內(nèi)SE、樣品室內(nèi)BSE、鏡筒內(nèi)SE及鏡筒內(nèi)BSE的4種不同襯度信號。電子束減速技術(shù)則可提升其成像能力,尤其是在低電壓下的分辨率。



TESCAN MIRA 場發(fā)射掃描電鏡

全新的 EssenceTM 電鏡控制軟件

采用 TESCAN Essence™ 多用戶電鏡操作軟件,具有快速搜索、操作步驟撤銷/重做和預(yù)設(shè)參數(shù)等功能,實(shí)現(xiàn)更高效的樣品分析和表征。用戶可以根據(jù)實(shí)際操作水平或特殊應(yīng)用需求的不同在軟件中自定義界面布局。另外,Essence™ 防碰撞模型軟件虛擬出樣品室內(nèi)部,直觀的顯示樣品室內(nèi)的所有硬件的幾何關(guān)系,樣品臺的大小和位置,以及樣品和安裝的其它附件。



創(chuàng)新的 SingleVac TM 模式

SingleVac™ 模式是 TESCAN MIRA 的標(biāo)配功能,TESCAN 已為此模式預(yù)設(shè)了真空值,荷電樣品無需噴鍍也可以使用背散射電子探測器直接觀察。同時還可以選配 UniVac™ 模式,該模式下可連續(xù)調(diào)節(jié)真空度至 700 Pa,用于放電、放氣及電子束敏感樣品的二次電子和背散射電子成像。


軟件:

·         測量軟件公差測量軟件

·         圖像處理

·         預(yù)設(shè)參數(shù)

·         直方圖及LUT

·         SharkSEM™ 基礎(chǔ)版 (遠(yuǎn)程控制)

·         3D 防碰撞模型軟件

·         對象區(qū)域

·         光電聯(lián)用

·          定時關(guān)機(jī)

·         CORAL™(用于生命科學(xué)的電鏡模塊)

·         自動拼圖軟件

·         樣品觀察

·         TESCAN Flow™ (離線處理軟件)

根據(jù)實(shí)際配置和需求


 



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