化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>制樣/消解設(shè)備>其它消解設(shè)備>Centrotherm RTP 150 Centrotherm 快速熱工藝設(shè)備-RTP 150
Centrotherm RTP 150 Centrotherm 快速熱工藝設(shè)備-RTP 150
- 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) Centrotherm RTP 150
- 產(chǎn)地 德國(guó)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/9/25 16:17:58
- 訪問(wèn)次數(shù) 1171
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
|---|
Centrotherm 快速熱工藝設(shè)備-RTP 150
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介
德國(guó)Centrotherm公司是國(guó)際主流的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，尤其在高溫設(shè)備領(lǐng)域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速熱工藝設(shè)備，主要用于滿足研發(fā)和小規(guī)模量產(chǎn)所需的多種工藝要求。
RTP 150型快速熱反應(yīng)設(shè)備，采用緊湊型的真空腔室設(shè)計(jì)滿足多種工藝需要，是一款可用于生產(chǎn)和研發(fā)用的單晶圓工藝設(shè)備。
RTP 150型設(shè)備包括一個(gè)帶集成壓力學(xué)習(xí)控制壓力范圍在1mbar至50mbar的真空腔室。采用燈管加熱系統(tǒng)提供了可調(diào)節(jié)的加熱均勻性控制，采用了CENTROTHERM公司技術(shù)的溫度控制系統(tǒng)。
RTP系統(tǒng)可用于6寸晶圓和5寸石墨基板的加熱。可在15分鐘內(nèi)更換基板的尺寸和類(lèi)型。
設(shè)備用于高性能、小占地面積、低成本高工藝靈活性的工藝場(chǎng)合。
設(shè)備特點(diǎn)：
壓力可控的真空或大氣環(huán)境下工作
高靈活性：最大6寸硅片或其他材料
溫度范圍：20℃~1150℃
*加熱的工藝溫度可達(dá) 750℃
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