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vp100 半導(dǎo)體等離子處理機(jī)

參考價 180000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 深圳金鉑利萊科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 vp100
  • 產(chǎn)地 深圳市寶安區(qū)沙井街道南環(huán)路西部創(chuàng)業(yè)園D棟4樓
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2021/7/23 9:29:07
  • 訪問次數(shù) 903

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深圳金鉑利萊科技有限公司成立于2014年,引用源自德國25年等離子系統(tǒng)研發(fā)技術(shù),是一家專業(yè)從事等離子蝕刻/清潔系統(tǒng)的研發(fā)與生產(chǎn)制造于一體的高科技企業(yè)。等離子清洗機(jī)公司簡介:公司成立以來一直為手機(jī)、電腦、線路板、LED、半導(dǎo)體、光電太陽能、汽車、醫(yī)療等高科技電子領(lǐng)域及大規(guī)模工業(yè)領(lǐng)域客戶提供等離子處理系統(tǒng)。

等離子清洗機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域:

光學(xué)鏡片清洗:清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

去除氧化物:移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。

芯片清洗:清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。

表面修飾:高分子材料表面的修飾。

封裝領(lǐng)域:封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,增強其粘附性,適用于直接封裝及粘和。

改善粘合力:改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力


涂覆鍍膜:對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增強表面粘附性、浸潤性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。

牙科領(lǐng)域:對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理,增強其浸潤性和相容性。

醫(yī)用領(lǐng)域:修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理,增強其浸潤性、粘附性和相容性及對醫(yī)療器械的消毒和殺菌。


等離子清洗機(jī),大氣等離子清洗機(jī),真空等離子清洗機(jī)

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,能源,電子,汽車,綜合
是否定制 可定制

    OLED又叫有機(jī)電激光顯示、有機(jī)發(fā)光半導(dǎo)體,具有優(yōu)秀的圖象質(zhì)量,特別是在亮度以及對比度等方面,因此被廣泛應(yīng)用于彩色顯示器。。近十年來,對OLED的研究得到廣泛的關(guān)注,對未來的圖象顯示技術(shù)帶來無法估量的沖擊。OLED器件的性能與空穴注入過程有非常密切的關(guān)系,通過使用錫摻雜氧化銦(ITO)做OLED的陽極。

等離子處理OLED陽極金屬(ITO)整體解決方案

    固體表面的結(jié)構(gòu)和組成都與內(nèi)部不同,處于表面的原子或離子表現(xiàn)為配位上的不飽和性,這是由于形成固體表面時被切斷的化學(xué)鍵造成的。正是由于這一原因,固體表面極易吸附外來原子,使表面產(chǎn)生污染。因環(huán)境空氣中存在大量水份,所以水是固體表面最常見的污染物。由于金屬氧化物表面被切斷的化學(xué)鍵為離子鍵或強極性鍵,易與極性很強的水分子結(jié)合,因此,絕大多數(shù)金屬氧化物的清潔表面,都是被水吸附污染了的。

等離子處理機(jī)工作流程,金鉑利萊科技

    等離子處理機(jī)如何進(jìn)行工作,工作流程?

1、首先將被清洗的工件送入真空機(jī)并加以固定,啟動運行裝置開始排氣,讓真空腔內(nèi)的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時間大約需要幾分鐘。


2、然后向真空室內(nèi)引入等離子清洗用的氣體,并保持腔內(nèi)壓強穩(wěn)定。


3、在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿并通過輝光放電而發(fā)生等離子化和產(chǎn)生等離子體,讓在真空腔內(nèi)產(chǎn)生的等離子體籠罩住被處理的工件并開始清洗作業(yè),一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾十分鐘不等,根據(jù)處理材質(zhì)的不同而定。


4、清洗完畢后切斷電源,并通過真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出,清洗結(jié)束。

真空等離子處理機(jī),oled等離子清洗機(jī),金鉑利萊

    將基片放在底座上,在真空系統(tǒng)中通入不同的混合氣體,并在金屬電極上家射頻電壓將氣體電離,形成等離子體,以非常快的速度轟擊ITO基片。為了形成較均勻的電場,電極采用金屬柵網(wǎng)結(jié)構(gòu)。等離子體的作用通常是改變表面粗糙度和提高功函數(shù)。研究發(fā)現(xiàn),等離子作用對表面粗糙度的影響不大,只能使ITO的均方根粗糙度從1.8nm降到1.6nm,但對功函數(shù)的影響卻較大。


    用等離子體處理提高功函數(shù)的方法也不盡相同。氧等離子處理是通過補充ITO表面的氧空位來提高表面氧含量的。氧同表面有機(jī)污染物反應(yīng)生成CO2和H2O,去除了表面有機(jī)污染物。SF6通過在ITO表面形成一層含氟層來提高表面功函數(shù),對粗糙度的改變不明顯。Ar等離子處理是通過除區(qū)在裝載基片過程中吸附的氧來清潔ITO表面的。





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