光學真空鍍膜機
- 公司名稱 武漢賽斯特精密儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2021/6/22 15:37:07
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實驗室檢測儀器，測試儀器設備等
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 醫療衛生,化工,電子 |
光學真空鍍膜機
是一種用于物理學、化學、材料科學領域的工藝試驗儀器是一種用于物理學、化學、材料科學領域的工藝試驗儀器
技術指標
1．極限真空：7×10-6Pa2．磁控靶：Φ英寸×5只（永磁）3．靶—基距：20—100mm4．基片架：直接水冷，可轉動5．樣品：2.6×76mm或F60mm×8（最大）6．氣路：0～10sccm，0～10sccm，0～100sccm質量流量計、共4路進氣7．電源：RF13.65MHZ600W×2（進口）DC1000W×1（進口）RF500W×2（國產）8．機械手：2只。
主要功能
可制備各種金屬、非金屬薄膜的復合多層薄膜，特別是磁性薄膜；可進行多元共濺射，并可同時導入二種反應氣體進行反應濺射；可對基片加熱濺射和反濺射清洗。
特點：
1、支持向上或向下的鍍膜方式；
2、*的濺射靶材結構設計，實現膜厚分部的穩定可靠；
3、高速旋轉的傘具與實際鍍膜工件的監控位置，實現了所見即所得；
4、多通道透射式監控，配合可調節膜厚修正板，實現了膜厚分布的反饋控制；
5、支持任意膜厚的控制；
6、通用的控制平臺，友好的人機界面，使客戶可以自行設置鍍膜機的所有控制參數；
7、開放式接口，方便安裝第三方的光學膜厚儀；
8、氣流和氣壓同時實時控制，適用出氣量大的低溫鍍膜。
光學真空鍍膜機
工藝參數：
1、真空系統
a) 極限真空度：4.0×10-5Pa
b) 抽至10Pa所用時間：≦ 10 分鐘
c) 漏率： 3.0×10-5Pa m3/sec
2、控制精度
a) 靶材尺寸：8寸直徑
b) 工件旋速: 20-120RPM
c) 工件尺寸：直徑900mm
d) 離子源：等離子體離子源
e) 加熱溫度：上下雙加熱控制，Z高溫度350度
f）高真空泵：DN400油擴散泵或電子泵
g）低真空泵組：機械泵+羅茨泵機組
h）冷阱：雙組Polycold
3、光學監控系統OMS
a) 波長精度：0.2nm
b) 光強波動: 白光< 0.1%，激光< 0.02%
c) 波長范圍: 400nm-1650nm
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