全自動曝光機
- 公司名稱 武漢賽斯特精密儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2021/8/6 15:13:58
- 訪問次數(shù) 908
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實驗室檢測儀器，測試儀器設(shè)備等
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 |
|---|
全自動曝光機適用于: 半導(dǎo)體, MEMS, 傳感器, 微流體, IOT, 封裝
OAI在半導(dǎo)體行業(yè)中擁有超過40年的制造經(jīng)驗，通過新的精英級光刻設(shè)備滿足了日益增長的動態(tài)市場挑戰(zhàn)。
基于悠久的OAI模塊化平臺，6000系列具有前端或后端對齊，全自動化，亞微米分辨率，可提供與比的性價比。
OAI Aligners擁有*光束光學元件，其均勻性優(yōu)于±3％，在一次掩模模式下每小時可產(chǎn)生180片晶圓，從而提高產(chǎn)量。 6000系列可以處理超厚和鍵合襯底（高達7000微米），翹曲晶圓（高達7 mm-10mm），薄襯底（低至100微米厚）和厚光刻膠等各種晶圓。
憑借越的工藝可重復(fù)性，6000系列是所有生產(chǎn)環(huán)境的解決方案。選擇使用OAI基于Cognex的定制模式識別軟件的正面或可選背面對齊。對于整個光刻過程，Seriesl 6000可以與集群工具無縫集成。
優(yōu)勢：
· 全自動
· 上側(cè)對準
選配：
· 底側(cè)對準
· DUV 至 NUV
· 集群工具集成
· 客戶定制化軟件
全自動曝光機規(guī)格：OAI系列 6000 掩膜對準系統(tǒng)
曝光系統(tǒng) | ||||
曝光模式 | 真空接觸 | 硬接觸 | 軟接觸 | 近接觸（20μ gap） |
分辨率 | 0.5-0.8μ | 0.8-1.0μ | 1.0-3.0μ | 3.0μ |
*的光學系統(tǒng) | ||||
均勻光束尺寸： | 2” -200mm 正方形/圓形 200mm-300mm 正方形/圓形 | |||
均勻性 | 優(yōu)于±3% | |||
攝像頭 | 帶CCTV擴展景深的雙攝像頭 | |||
對準系統(tǒng) | ||||
圖案識別 | 帶OAI客戶定制軟件的Cognex VisionProTM | |||
對準準度 | 上側(cè)0.5μm 從上到下可選背面對齊的1.0μm | |||
預(yù)對準確度 | 優(yōu)于±5μm | |||
自動對準 | 從上到下 上側(cè) | |||
晶圓處理 | ||||
基版尺寸 | 2” -200mm 圓形或正方形或 200mm-300mm 圓形或正方形 | |||
薄晶圓 | 薄至100μm | |||
翹曲的晶圓 | 翹至 7mm-10mm | |||
厚和粘合襯底 | 厚至7000μm | |||
采購中心
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