應用領域 | 醫療衛生,環保,生物產業,農業 |
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納米壓印Nanonex高分辨率光刻/對準器 Lumina系列為電子,光電,MEMS和許多其他應用中的高分辨率,對準,接觸和接近光刻提供了高質量,可靠且經濟高效的解決方案。 它具有易于使用的界面,高精度的載物臺,高性能的光學元件和較小的占地面積。
Nanonex Lumina-200納米壓印主要特點
高分辨率光刻
高精度對準平臺
*的對準光學
間隙控制
用戶友好的PC控制
占地面積小
具有成本效益的設計
背面對齊可選
應用領域:半導體器件 *微機電系統 *光電子學 *高級包裝 *電力設備
納米壓印Nanonex高分辨率光刻/對準器技術參數
手冊X-Y-?
帶稱重傳感器的電動Z
移動范圍: X和Y:1英寸
?:10度
Z:0.25英寸
掩膜加載能力
5”口罩標準
其他尺寸可選
基板裝載能力
4”標準
其他尺寸可選
對準 模式:接近、柔和、硬
對準光學
分割欄 5倍物鏡,1到7倍變焦
2個獨立的手動X,Y,Z顯微鏡移動 精細粗調
通過CCD相機成像
曝光系統
紫外線:汞燈,帶有可選的G線或I線過濾器
紫外線燈功率:500瓦
紫外線均勻照射
電動紫外線燈移動
具有Microsoft Windows的基于PC的控制計算機
用戶友好的控制軟件 PC控制的CCD視頻
紫外線燈曝光由電腦控制
占地面積:31英寸乘44英寸(780毫米乘1110毫米)