| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,能源,電子 |
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化合物半導體用快速退火爐詳情：
1、可適用基片類型：
硅和化合物半導體晶圓，GaN /藍寶石和碳化硅晶圓，多晶硅晶圓，玻璃，金屬，高分子聚合物，石墨和碳化硅托盤等等。
2、應用：
注入退火、歐姆接觸退火(III-V and SiC)、碳化硅、快速熱氧化RTO、快速熱氮化RTN、致密和結晶、硒化、快速熱CVD（多晶硅、SiO2, SiNx）
3、產品特性：
多區紅外線鹵素燈退火爐配有閉環空氣冷卻
不銹鋼冷壁腔室技術
快速數字PID溫度控制器
熱電偶和高溫計控制
大氣和真空工藝性能
配有針閥的吹掃氣路
多6條工藝氣路，配有MFC
配有以太網通訊的PC控制，用于快速數據記錄
可選配渦旋泵和壓力控制
手動或盒到盒裝載
4、多配置選擇：
S20: 標準, 6個區域, *高到1150°C，升溫速率可達100°C/s
S20 HT: 高溫, 6 個區域, *高到1450°C，升溫速率可達200°C/s
2000: 增強均勻性, 10個區域, *高到1250°C，升溫速率可達150°C/s
2000 HT: 可在S20 HT或2000配置中運行
多溫度端口位置以滿足不同基片尺寸
可選配適用于低真空工藝的抽真空腔室
氣體面板用于CVD應用的退火
可選配壓力控制
可選配渦輪泵
盒到盒版本
化合物半導體用快速退火爐
北京朗銘潤德光電科技有限公司是一家在半導體微電子、高精密光學鍍膜領域，光伏、光熱、鋰電池等新能源領域以及窗膜、汽車膜、柔性電路板等行業提供專業相關工藝設備的代理公司。
從2006年起與德國著名微電子設備專業廠家FHR公司開始合作，并于2008年成為其中國區的代理機構。通過我們的合作，使 FHR的產品逐漸進入中國，并成為國內鍍膜設備的供貨商。
我們于 2010 年在北京石景山中關村高科技園區成立了專業代理國外微電子半導體及相關設備的北京朗銘潤德光電科技有限公司，并與*技術供貨商建立合作關系，為公司全面化運轉及操作奠定了良好開端。
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