| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,能源,電子 |
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實驗室用快速退火爐
1、設備尺寸詳情：
AS-0NE100：530*800*1425mm
2、型號介紹：
不銹鋼水冷壁腔室壁真空快速退火爐(快速熱處理爐)，具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 兩種版本
3、性能和特征：
可處理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圓，可適用大范圍類型的基片：硅和化合物半導體晶圓，GaN /藍寶石和碳化硅晶圓，多晶硅晶圓，玻璃，金屬，高分子聚合物，石墨和碳化硅托盤等等。
設備應用具有：硒化、硫化、接觸退火，注入退火，RTO (快速熱氧化) ，RTN (快速熱氮化) ，硅平滑，擴散，致密化和結晶化，石墨烯CVD，碳納米管等。
不銹鋼水冷腔壁技術，高工藝復現性，超潔凈及無污染環境
高冷卻速率，低記憶效應
具有真空能力，可選配分子泵
溫度控制：高溫計和熱電偶控制+快速數字PID溫度控制器
邊緣高溫計視口，確保用于化合物半導體和小型樣品
基片托的溫度控制
實驗室用快速退火爐
4、快速退火爐的具體參數
溫度范圍: 室溫至1250°C(AS-One100)、室溫至1450°C(AS-One100HT)、室溫至1200°C(AS-One150)、室溫至1300°C(AS-One150HT)、升溫速率：可達200°C/s(AS-One100)，可達150°C/s(AS-One150)
特殊配置下冷卻速率達 100°C/s(選配快速冷卻裝置)
可配5條帶質量流量控制器(MFC)的工藝氣路
標配一條吹掃氣路
具有真空能力，配備干泵，可選配分子泵。
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