“刻線衍射光柵，UV反射式”參數說明

“刻線衍射光柵，UV反射式”詳細介紹

刻線衍射光柵，UV反射式基本介紹

刻線衍射光柵，UV反射式QXKJ提供用于300 nm左右紫外區域的刻線衍射光柵。這些光柵在300 nm閃耀波長下具有相對尖銳的效率峰值，并且由刻線的基底材料生產。

刻線衍射光柵，UV反射式性能特點

特性

· 閃耀波長300 nm

· 在閃耀波長下光柵效率高達60%到80%

· 低鬼影：小于主反射的0.5%

· 反射鋁膜

· 鈉鈣玻璃基底，300到1200刻線/mm

· 使用刻線的基底材料生產

刻線衍射光柵，UV反射式技術參數

刻線衍射光柵，UV反射式使用說明

我們提供不同閃耀角的光柵，滿足需要重點考慮效率的多種光譜學和分析應用。需要更多信息請點擊上方光柵教程標簽。我們還提供全息光柵，它們不會產生鬼影效應，但是效率更低。

請注意，這些光柵的反射鋁膜是裸露的，而且沒有保護鍍膜。但是可以定制MgF2或金膜來保護光柵的鋁膜表面。金膜在紅外波段的性能更好，而MgF2膜提供保護性；

刻線衍射光柵，UV反射式采購須知

注意

光柵很容易被潮濕、指紋、氣溶膠或任意摩擦材料的輕微接觸而損傷。光柵只能在必要時才拿取，而且只能通過邊緣夾持。應佩戴橡膠手套或類似的防護套，以防止手指上的油污接觸光柵表面。清潔時只能使用凈化的干燥空氣或氮氣吹掃光柵，其它任何操作都是不允許的。溶劑很可能會損傷光柵表面。