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化工儀器網>產品展廳>行業專用儀器及設備>其它行業專用儀器>其它專用儀器>SWC系列/LSC系列 進口晶圓清洗機

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SWC系列/LSC系列 進口晶圓清洗機

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 那諾中國有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 SWC系列/LSC系列
  • 產地 美國
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2024/8/12 14:47:36
  • 訪問次數 1846

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那諾中國有限公司專注于為大中華區域(包括中國大陸、香港、澳門和中國臺灣)的高校、科研院所、企業研發與生產等企業機構提供高性能、高性價比、定制化的薄膜工藝加工設備及科學分析檢測儀器。


那諾中國提供美國那諾-馬斯特薄膜工藝加工設備(包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機等)。


那諾中國提供英國KORE基于飛行時間的質譜儀,包含飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS)、質子轉移反應(PTR)質譜儀、電子轟擊電離(EI)質譜儀等。





ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,晶圓清洗機,PA-MOCVD,飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS)

產地類別 進口 應用領域 醫療衛生,化工,生物產業,電子,制藥

進口晶圓清洗機概述:兆聲和清洗技術的發展,對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。

NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統,用于*進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到優化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面,通過分布能量的z大化支持z理想的清洗,同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。

SWC系統提供了可控的化學試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統,可以*節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力,提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。

進口晶圓清洗機應用:

  • 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

  • Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗

  • CMP處理后的晶圓片清洗

  • 晶圓框架上的切粒芯片清洗

  • 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

  • 帶保護膜的分劃版清洗

  • 掩模版空白部位或接觸部位清洗

  • X射線及極紫外掩模版清洗

  • 光學鏡頭清洗

  • ITO涂覆的顯示面板清洗

  • 兆聲輔助的剝離工

  • 硅片和藍寶石片清洗

  • 帶晶圓框架的芯片清洗

  • FSI清洗

  • 硅片和藍寶石片清洗

  • 帶晶圓框架的芯片清洗

  • 顯示平板,ITO涂層顯示屏清洗

  • 帶圖案及無圖案掩模版清洗

  • 帶保護膜分劃板的背面清洗

  • 薄膜結構膠粘劑清洗

  • 光刻膠涂覆/剝離和Piranha去膠

  • 背面多晶去除

  • 顯影和其他刻蝕應用

選配項:

  • 掩模版或晶圓片夾具

  • PVA軟毛刷清洗(100RPM)

  • 化學試劑清洗(CDU)

  • 氮氣離子發生器

  • CMP后的刷子清洗(可高達400RPM)

  • 背面去離子水清洗和干燥

  • CO2注入,帶DIW電阻率監測單元

  • 用于DIW或hua'xue'shi'ji化學試劑的內嵌式加熱器

  • 化學液補滿傳感器

  • FM4910材料

  • 25片casssette機械手自動上下片

型號:

  • SWC-3000臺式單晶圓/掩模版清洗系統

  • SWC-4000立柜式單晶圓/掩模版清洗系統

  • SWC-5000帶25片cassette機械手自動清洗

  • LSC-4000大基片清洗機

  • LSC-5000全自動清洗系統



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