產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,電子,制藥 |
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進口晶圓清洗機概述:兆聲和清洗技術的發展,對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統,用于*進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到優化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面,通過分布能量的z大化支持z理想的清洗,同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。
SWC系統提供了可控的化學試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統,可以*節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力,提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。
進口晶圓清洗機應用:
帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
CMP處理后的晶圓片清洗
晶圓框架上的切粒芯片清洗
等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
帶保護膜的分劃版清洗
掩模版空白部位或接觸部位清洗
X射線及極紫外掩模版清洗
光學鏡頭清洗
ITO涂覆的顯示面板清洗
兆聲輔助的剝離工
硅片和藍寶石片清洗
帶晶圓框架的芯片清洗
FSI清洗
硅片和藍寶石片清洗
帶晶圓框架的芯片清洗
顯示平板,ITO涂層顯示屏清洗
帶圖案及無圖案掩模版清洗
帶保護膜分劃板的背面清洗
薄膜結構膠粘劑清洗
光刻膠涂覆/剝離和Piranha去膠
背面多晶去除
顯影和其他刻蝕應用
選配項:
掩模版或晶圓片夾具
PVA軟毛刷清洗(100RPM)
化學試劑清洗(CDU)
氮氣離子發生器
CMP后的刷子清洗(可高達400RPM)
背面去離子水清洗和干燥
CO2注入,帶DIW電阻率監測單元
用于DIW或hua'xue'shi'ji化學試劑的內嵌式加熱器
化學液補滿傳感器
FM4910材料
25片casssette機械手自動上下片
型號:
SWC-3000臺式單晶圓/掩模版清洗系統
SWC-4000立柜式單晶圓/掩模版清洗系統
SWC-5000帶25片cassette機械手自動清洗
LSC-4000大基片清洗機
LSC-5000全自動清洗系統