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CIF Spin Coater 勻膠機

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企業歷程 :

◆ 2006 年,在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大學科研院所銷售儀器設備的供應商。

◆ 2008 年, 自主研發生產石墨電熱板以來, 先后研發生產酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設備, 從此走上研發生產專業化道路。

◆ 2010 年,掌握了等離子核心技術,自主研發生產科研型等離子清洗機系列產品。

◆ 2014 年, 在中國注冊成立華儀行(北京) 科技有限公司, 正式進入中國市場, 部分儀器設備研發、制造業務移至中國。

◆ 2015 年,自主研發生產專為處理粉體樣品而設計轉瓶等離子清洗機。

◆ 2017 年,自主研發生產紫外臭氧清洗機系列產品。

◆ 2018 年,在中國成注冊立賽福儀器承德有限公司,將研發制造業務全部移至中國。

◆ 2019 年,電鏡專用遠程等離子清洗機研發成功。

◆ 2021 年,自主研發生產中試、生產型等離子清洗系列產品,完善了等離子產品線。

◆ 2023 年,科研型等離子去膠機、RIE 蝕刻機研發成功。


公司專注材料表面處理技術:

◆ 改性(等離子清洗機、紫外臭氧清洗機)                   ◆ 去膠(等離子去膠機)

◆ 蝕刻(等離子刻蝕機)                                              ◆ 涂層(等離子濺射鍍膜機、勻膠機、烤膠機)

企業愿景:

致力于為全球用戶提供專業的表面處理整體解決方案。

企業使命:

CIF與我們的員工、客戶乃至商業伙伴在內的所有人,同呼吸,共命運,共同成長,共同發展,共同成就夢想!


半導體領域儀器設備:等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機等。 理化實驗室儀器設備:酸蒸逆流清洗器、真空趕酸系統、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板等

產地類別 國產 價格區間 10萬-30萬
應用領域 醫療衛生,環保,食品,化工,農業
  CIF-Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態滴膠方式是在基片低速(通常在500轉/分左右)旋轉的同時進行滴膠,“動態”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開,減少光刻膠的浪費,采用動態滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動態滴膠尤其適用,不會產生針孔。
 

Spin Coater

 

  滴膠之后,下一步是高速旋轉。使光刻膠層變薄達到要求的膜厚,這個階段的轉速一般在1500-6000轉/分,轉速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度,溶劑揮發速度,固體含量以及表面張力等)以及基片的大小。快速旋轉的時間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉速以及勻膠時間往往能決定膠膜的厚度。
  一般來說,勻膠轉速快,時間長,膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多,這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以建議給予勻膠過程以足夠的時間,讓諸多影響因素達到平衡。
 
  Spin Coater勻膠機產品特點:
  1.采用閉環控制伺服電機,數字式增速信號反饋,速勻準確,壽命長,保證勻膠均勻。
  2.5寸全彩觸摸屏,智能程序化可編程操控顯示,標配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設置),可選配10個可編程程序,每個程序下可設置10個勻膠梯度階段,多100個階段。
  3.內置水平校準裝置,大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規格的基片進行旋涂。
  4、多重安全保護
  電磁安全開關,蓋子打開卡盤停止,保證安全;蓋子自鎖功能,防止飛片蓋彈開傷人;雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,大限度保證實驗人員安全。
  5.一機兩用,根據不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。
  6.不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,PTFE旋涂腔體,聚丙烯(NPP-H)旋涂托盤,PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋,耐酸堿防腐蝕,保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。
  7.勻膠機適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs,GaN,InP 等多種材料。
 
  CIF-Spin Coater勻膠機技術參數:
 

型號

轉速(轉/分)

轉速穩定度

勻膠時間

旋涂基片尺寸mm

外型尺寸(LxWxH)mm

SC1

50-10000

±1%

0-2000S

圓片Φ5-Φ100,方片大100x100

310x260x250

 



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