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日立分析儀器(上海)有限公司

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AR-Meta 超表面光場檢測系統

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      我們是誰

 上海復享光學股份有限公司(以下簡稱:復享光學)是中國*的光譜分析與制程檢測供應商,在微納光電子與生命科學等領域,為客戶提供優質的光譜解決方案。公司成立于2011年,總部坐落于上海楊浦,在北京和倫敦分別設有辦事處和分公司。

 復享光學是由技術與市場雙引擎驅動的高科技企業,崇尚賦能與承諾的開放文化。我們的團隊由諸多領域的高層次人才組成,985院校畢業生占比超過70%,博士成員9人。

 復享光學于2016年登錄新三板。

 

公司介紹圖片.png            “讓光譜簡單” 是我們的使命

      愿景與使命

 光譜改變生活,是復享光學創立的愿景,是我們追求的至高目標。我們相信,光譜因其對光、物質和結構的天然敏感,將會在科學研究、技術開發、生產制造和大眾生活中發揮更為重要的作用,并終改變我們的生活形態,提升生活品質。

 復享光學立志發展“全光譜”技術,簡化科研與制程場景下所面臨的復雜問題。讓光譜簡單,是我們每天的使命與追求。

 

產品與服務

 復享光學在光譜分析行業深耕10年,在微型光譜儀、角分辨光譜和共焦光譜方面,擁有獨到且具有新穎性的技術,具有強大的市場競爭力。

 2020年,復享光學獲批成立“上海微納制程智能檢測工程中心(SERCOM)”,專業定位于在包括集成電路芯片、光芯片、生物芯片、AR/VR 和*顯示等微納制造領域,為產業提供檢測技術服務。

 

公司優勢

 復享光學的發展具有堅實的研發支撐。公司擁有近千平方米的省部級工程技術研究中心,與高校、研究院所合作建有5個聯合實驗室,共同圍繞微納技術開展深入研究。

 得益于持續的研發投入,公司累計承擔了十余項國家及省部級科技項目,擁有高/新技術企業資質、上海市優/秀技術帶頭人、上海市專精特新中小企業、楊浦區科技小巨人等稱號。

 截至2019年,公司共獲得43項知識產權,2項技術成果轉化,在光譜技術微型化、角分辨光譜、共焦光譜和深度學習等方面均擁有關鍵專/利,是“全光譜+人工智能”技術的首倡者

之一
光譜儀

 

美國*&工程院院士 Prof. E. Yablonovitch(左圖);時任上海市委書記、市長*一行(右圖)

 

 

 

 

光譜儀、熒光光譜儀、顯微光譜儀、積分球透過率儀、顯微分光光度計

按探測器 CCD 光譜范圍 可見,380~1050nm / 900~1700nm,可切換nm
光譜范圍 可見,380~1050nm / 900~1700nm,可切換nm 價格區間 面議
應用領域 醫療衛生,環保,化工,生物產業,電子

AR-Meta 超表面光場檢測系統

典型應用領域:
超表面器件 超表面器件在空間上具有復雜的光場調控能力,需要在微米尺度下掃描光場。
超透鏡 受限于設計規模和微納加工能力,超透鏡難以實現較大口徑。面向折射型透鏡的傳統檢測工具已無法滿足該類器件的光學性質表征需求,針對超透鏡特點設計的檢測平臺應運而生。
微透鏡 口徑在數百微米以下的微透鏡及陣列,在集成光學中已開始發揮重要作用,受限于透鏡口徑,當前缺乏商用化的微透鏡光學指標檢測平臺。
      
  AR-Meta 超表面光場檢測 在以上領域的應用得益于如下幾個特點:1.μm 量級測量區域  AR-Meta 基于 Olympus 商用顯微平臺,配合消除像差的準直及成像光路,實現了 μm 量級超表面器件光場檢測; 2.超過 7 項關鍵指標  圍繞超表面器件及超透鏡領域的研究熱點,AR-Meta 形成了焦距、成像分辨率 (含角向分辨率)、點擴散函數 (PSF)、調制傳遞函數 (MTF)、斯特列爾比 (Strehl Ratio)、數值孔徑 (N.A.)、偏折效率 (Deflection Efficiency) 等超過 7 項衡量器件光學性質的關鍵指標;3.寬 380~1700nm 譜段  AR-Meta 內部支持兩個譜段:可見和近紅外 (含 850nm,1310nm,1550nm),并通過高穩定切換部件實現了兩者的切換,與之匹配的是可以通過外部接口,引入多種波長的激光光源;4.反射 + 透射  AR-Meta 具有獨立的反射與透射兩套光路,能夠輕松實現反射情況下 0~20mm 縱深,透射情況下 0~2mm 縱深的光場掃描; 5.工程化設計  AR-Meta 在設計中充分考慮了光路切換的穩定性,實現了控制的自動化,保障良好用戶體驗;6.除此之外,內秉的線偏振與圓偏振器件,多種濾色片的選擇等,使 AR-Meta 的應用覆蓋了超表面檢測所需要的多數場合。

 復享超表面光場檢測系統的相關參考文獻 
? "Metalenses at visible wavelengths: Diffraction-limited focusing and subwavelength resolution imaging." Science (2016).
影響因子:37.205,單位:哈佛大學/工程與應用科學學院,通訊作者:Federico Capasso1
? "A broadband achromatic metalens in the visible." Nature Nanotechnology (2018).
影響因子: 33.407,單位:臺北應用科學研究中心/中央研究院,通訊作者:Din Ping Tsai
? "Achromatic metalens bandwidth in the visible and metalens with reverse chromatic dispersion." Nano Letters(2017).
影響因子: 12.712,單位:哈佛大學/工程與應用科學學院,通訊作者:Federico Capasso1
? "Metalenses: Advances and Applications." Advanced Optical Materials (2018).
影響因子:7.143,單位:臺北應用科學研究中心/中央研究院,通訊作者:Din Ping Tsai
? "Imaging Performance of Polarization-Insensitive Metalenses." ACS Photonics (2019).
影響因子:7.143,單位:加州大學河濱分校/化學系,通訊作者:Manuel Decker

 

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