AP-1000等離子清洗系統(tǒng)

一、功能簡介：

在微電子加工過程中，特別是在芯片貼裝和絲線鍵合的過程中，需要對表面輕微有機污染或氧化物進行清洗，在這種場合下，需要用等離子清洗的方法進行清洗。美國MARCH 公司的等離子清洗設(shè)備在以下器件的制造過程中能起到很好地清洗作用：光電器件、微波器件、混合電路、MEMS器件、RF模塊、功率器件、傳感器、半導(dǎo)體器件、LED、分立元器件、納米器件、聲表器件。

特征優(yōu)勢：

觸摸屏的PLC控制，提供了形象的圖形界面和實時過程顯示；

靈活的支架結(jié)構(gòu)允許處理多種部分，在水平或豎直模式下；

13.56MHz的電源具有自動阻抗匹配功能，因此具有出色的過程重復(fù)性；

專li的控制軟件系統(tǒng)為統(tǒng)計過程控制產(chǎn)生過程和產(chǎn)品的數(shù)據(jù)；

March AP-1000等離子清洗系統(tǒng)，是專門設(shè)計適應(yīng)24小時生產(chǎn)的嚴格要求的情況。此系統(tǒng)提供統(tǒng)一的等離子體，具有優(yōu)良的可靠性、安全性及操作簡單等優(yōu)點。

AP-1000平臺是*獨立的，因此要求小的層空間。泵、處理腔體、電子控制和13.56MHz電源供應(yīng)都被安裝在一個單一的外殼內(nèi)。前面開門使得存取組件都很便利。泵安裝在便于拆卸的滾筒上。

帶有HTP （高吞吐量）架選項的AP-1000等離子系統(tǒng)結(jié)合了可靠性和生產(chǎn)品質(zhì)，證明March 專li的HTP架的優(yōu)勢。AP-1000 HTP優(yōu)化在RF激勵源產(chǎn)生的離子的應(yīng)用，使在減少過程時間的時候，提高處理的*性。

AP-1000 HTP允許選擇一系列工藝氣體，例如氬氣、氫氣和氦氣等。它裝備4個質(zhì)量流量控制器以達到jia的工藝氣體控制。

帶有槽的M/G制具垂直安裝在處理腔體中。出色的是，每塊M/G制具可小支撐20個框架。處理腔體多可裝12個M/G制具，這有M/G制具的尺寸決定。