XEIA3掃描電鏡 XEIA3掃描電鏡
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 TESCAN泰思肯貿易(上海)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 XEIA3掃描電鏡
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2019/6/13 11:23:47
- 訪問次數 627
產品標簽
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價格區間 | 面議 | 儀器種類 | 冷場發射 |
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應用領域 | 環保 |
XEIA3掃描電鏡集非凡的超高分辨成像能力和優異的微細加工于一體。強大且超快速的微/納米 FIB 加工、低能電子束下的超高分辨率(UHR)、超快且可靠的微量分析和三維重構功能,使得 XEIA3 成為一款理想易用的 FIB-SEM 系統。隨著 XEIA3 的問世,TESCAN 不僅躋身儀器供應商之列,還履行了其致力于繼續幫助科研人員推動科學研究與進展的承諾。TESCAN 的定制化系統能滿足各類客戶的具體需求。從材料科學到生命科學,從材料工程到半導體行業,TESCAN 的設備一直都表現出的高性能。
XEIA3掃描電鏡
突出特點
Triglav™ -新型超高分辨率 ( UHR ) 電子光學鏡筒
- TriLens™物鏡系統:電子束無交叉模式與超高分辨率物鏡相結合
- 具有多個 SE 及 BSE 探測器的探測系統
- TriSE™+ TriBE™
- Triglav™ - 低加速電壓下的超高分辨率:1 nm (1 kV ), 0.7 nm (15 kV )
- EquiPower™ 進一步提高電子束的穩定性
- 電子束流高達 400nA,并能實現電子束能量的快速改變
- 優化的鏡筒幾何設計大可容納 8” 晶圓
極其強大的 Xe 等離子源 FIB 鏡筒
高電子回旋共振(High-ECR)產生的 Xe 等離子源 FIB 鏡筒,可完成 Ga 離子源 FIB 在納米工程領域不能完成的任務
- 濺射速率比 Ga 液態金屬離子源快 50 倍
- 離子束流范圍:1 pA ~ 2 µA;分辨率:<25 nm
- 新研發的高分辨率 Xe 等離子體 FIB 鏡筒(選配),分辨率優于< 15 nm,進一步增強刻蝕能力
- 大重量的 Xe 等離子具備更大的 FIB 電流范圍,在無氣體輔助增強的條件下也可實現超快濺射
- 相較于 Ga 液態金屬離子源,離子注入效應顯著減少
- Xe 惰性氣體原子不會改變圖樣區域附近的電學性能
- 銑削過程中無金屬間化合物形成