磁控濺射
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 沈陽美濟真空科技有限公司-J
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質 經(jīng)銷商
- 更新時間 2019/5/25 15:11:48
- 訪問次數(shù) 593
產(chǎn)品標簽
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
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1、基片尺寸：≥110×110mm，基片加擋板。
2、基片臺：基片臺旋轉，轉速0-25rpm連續(xù)可調，光控定位；
襯底加熱：磁控濺射采用真空加熱器，室溫～1500℃可調可控；
反濺清洗；磁控濺射采用射頻電源對基片表面進行“清洗/活化”；
3、基片架轉速0～25轉/分，可控可調。
4、基片架可加熱、可旋轉、可升降。
5、靶面到基片距離60～90mm可調。
6、Ф3英寸圓形平面磁控濺射永磁靶；可鍍鐵磁材料的磁控濺射靶1支，可鍍普通靶材的磁控濺射靶1支；靶材尺寸Ф3英寸。
7、鍍膜室極限真空：≤5×10-5Pa，抽至 10-4Pa≤20min；。
8、速率和膜厚監(jiān)控：石英晶振膜厚儀，在線監(jiān)測蒸發(fā)速率，監(jiān)控膜厚；厚度監(jiān)測范圍：1Å～99999Å，分辨率1Å；速率監(jiān)測范圍：0.1Å～99.9Å /s，分辨率0.1Å；
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