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NDA 300型 X熒光光譜儀

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X熒光光譜儀

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納優科技(北京)有限公司

專業從事X射線熒光分析(XRF)技術自主研究開發,XRF分析設備生產、銷售的科技型企業;

公司的生產基地設立于江西,在深圳、蘇州等地區設立有分支機構。

作為中國XRF分析技術領域*核心創新能力的研發團隊,納優科技的技術團隊從1987年開始承擔并圓滿完成了三項中國政府XRF科技攻關項目---國家“七•五”科技攻關項目(EDXRF)、國家“九•五”科技攻關項目(WDXRF)、國家“十一•五”科技支撐項目(偏振二次靶EDXRF),

現在正在承擔國家政府部門*XRF設備研發項目。

納優科技的研發團隊是中國XRF分析技術自主技術研發的*和*,曾獲得*屆中國科技大會獎、國家科技進步三等獎、部級科技進步二等獎等多項*及省部級獎勵,擁有多項XRF分析技術相關的及多項軟件著作權。

*以來,公司不僅注重于應用技術和產品的研發,也同樣注重相關基礎理論和基礎分析方法的研究,通過不斷的自主創新,保證了公司的技術水平與*水平同步。

xrf分析儀

價格區間 面議 行業專用類型 通用
儀器種類 臺式/落地式

NDA 300型 X熒光光譜儀應用領域

?RoHS指令篩選檢測

?無鹵指令篩選檢測

?玩具指令篩選檢測

?日用消費品中限制元素篩選檢測

?合金成分分析

? 土壤、污水重金屬檢測

NDA 300型 X熒光光譜儀技術特點

?配置“樣品免拆分”檢測模式:采用技術的光路結構,小照射光斑直徑可達到0.5mm,輔以精確的光斑定位系統,從而可以實現對復雜樣品進行免拆分直接測量的要求

 

?配置符合中國國家標準的樣品混測功能:方形4mmⅩ4mm光斑設計,配合0.5mm光斑配合使用,能夠對電路板等復雜樣品實現“免拆分”區域掃描測量功能;從而顯著節省測量時間,大幅度提高檢測效率

?配置On-Line實時在線技術支持系統(選配):實時解決用戶在使用過程中的疑難技術問題,同時對用戶操作人員進行培訓

 

?配置十六組復合濾光片:NDA300型配置了16組復合型濾光片,是業界配置較全、數目多的配置之一;16組濾光片的配置,*的保證了XRF分析儀針對各種復雜樣品檢測的適應性

 

?內置標準工作曲線:儀器內置了滿足EU-RoHS以及CHINA-RoHS產品認證要求的基礎材料的工作曲線,方便用戶直接使用;并與的認證檢測實驗室保持*

 

?具備開放的工作曲線技術平臺:基于開放的工作曲線技術平臺,電子生產企業可以建立針對自己工廠特定物料的工作曲線,確保XRF分析儀檢測結果的可靠性和準確性

 

?分析軟件操作系統分級管理:儀器系統軟件配置了操作員、工程師兩級操作功能菜單,便于工廠有序管理;操作員菜單簡單直觀,避免儀器重要參數的誤修改;工程師菜單功能強大,儀器的各種參數設置權限全部開放給用戶

 

 

?采用經典的迷宮式輻射防護結構:采用了經典的迷宮式輻射防護結構,在保持儀器外形美觀操作方便的同時,*杜絕低能散射X射線的泄露

 

?配置技術“影響權系數法”多層鍍層測厚功能:納優科技*的“影響權系數法”多層鍍層測厚技術,顯著提高鍍層厚度測量的準確度;大可測量鍍層數量為9層;*解決了常規XRF測厚方法所不能解決的塑料基體鍍層厚度測量的技術難題

?外觀設計實用美觀:符合人體工程學的儀器外形設計,操作人員測量過程方便舒適

 

 

分析方法及系統軟件

分析方法配置:

? 基于蒙特卡洛計算模型的基本參數法

? 經驗系數法

? 理論α系數法

軟件功能描述:

? RoHS指令、無鹵指令等環保指令所限制的Pb、Hg、Cd、TCr、TBr、Cl等元素含量的分析

? 各種金屬材料、無機非金屬材料(不包括聚合物材料)的材質分析(S~U元素)

? 聚合物等有機材料中硫(S)~鈾(U)元素的含量分析

? 分析報告的自主定制與輸出打印

? 分析結果的保存、查詢及統計

? On-Line實時在線技術支持與技術服務功能

? 多層鍍層厚度測量功能

 

產品參數

?名稱:X熒光光譜儀

?型號:NDA300

?輸入電壓:220±5V/50Hz

?消耗功率:≤500W

?環境溫度:15-30℃

?環境濕度:≤80%(不結露)

?主機外形(mm):長*寬*高=900*500*440

?樣品倉(mm):長*寬*高=430*380*120

?主機重量:約60公斤

 

主要配置

?SDD硅漂移電制冷半導體探測器

?側窗鉬(Mo)靶管

?標配16組復合濾光片

?配置了Φ0.5mm、Φ1mm、Φ3mm、Φ4mm四種準直器

?具備符合中國國家標準的樣品混側功能

?內置標準工作曲線

?配置On-line實時在線技術支持與服務平臺

?具備開放工作曲線技術平臺

?分析軟件操作系統分級管理

 

 

技術指標

?元素種類:元素周期表中硫(S)~鈾(U)之間元素

?測量時間:

        對聚合物材料,典型測量時間為30秒

        對銅基體材料,典型測量時間為30秒

?檢出限指標(LOD):

        對聚合物材料:LOD(Pb)≤5mg/Kg;LOD(Hg)≤5mg/Kg;LOD(TCr)≤5mg/Kg;LOD(TBr)≤5mg/Kg;LOD(Cd)≤5mg/Kg

        對銅基體材料:LOD(Pb)≤50mg/Kg

?精密度指標,以連續測量7次的標準偏差σ表征:

    對聚合物(塑膠)材料:LOD(Pb)≤15mg/Kg;LOD(Hg)≤15mg/Kg;LOD(TCr)≤15mg/Kg;LOD(TBr)≤15mg/Kg;LOD(Cd)≤7mg/Kg

        對銅基體材料:LOD(Pb)≤50mg/Kg

?準確度指標,以系統偏差δ進行表征

        對聚合物材料:δ(Pb)≤100mg/Kg; δ(Hg)≤100mg/Kg; δ(TBr)≤100mg/Kg; δ(TCr)≤100mg/Kg; δ(Cd)≤10mg/Kg

        對銅基體材料:δ(Pb)≤150mg/Kg



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