產品技術規格介紹

NT-60-PSP中型等離子清洗機規格

 

主要技術參數：
1) 整機外形尺寸（約）: 900W×1700H×1000D（mm） 外觀噴塑處理；
2) 反應倉尺寸： W450mm×H300mm×D450mm；
3) 電源：主系統電源: 380×(1±10%)V(AC)  50Hz～60Hz  三相五線
4) 等離子體頻率：13.56MHz；
5) 射頻電源功率：（0～600）W連續可調；
6) 設備功率：≤3kW
7) 控制方式：采用包括觸摸屏人機界面的PLC控制，操作方式包括自動模式和手動模式。在自動模式下將不同工藝參數按照配方方式管理，可同時存儲100組不同的配方。使用時只需要將相應配方號調出即可。設備參數分級管理，設備操作員、工藝人員、維護人員使用不同口令管理不同參數，提高設備安全性。手動模式用于實驗工藝以及設備維護維修。
8) MFC質量流量計控制（標準配置2路）
9) 氣體流量：(0～200)ml/min （標準氣壓,0℃）
10) 工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.45MPa
11) 壓縮空氣（啟動氣動角閥）接口壓力：0.45Mpa
12) 凈化冷卻氣體（氮氣）接口壓力：0.45MPa
13) 設備工作節拍：單次清洗時間≤6min（反應時間180S左右）
14) 工作真空度：10～150Pa

 

反應倉：
1) 反應倉材質：采用高純度304不銹鋼定制，緩解氧化生銹現象；
2) 電極板（托盤）材質：采用鋁合金或高純度304不銹鋼定制，緩解氧化生銹現象；
3) 反應倉后部安裝有銅電極座，電極座分布多個螺釘鎖定接口，水平電極板通過該接口鎖定，牢固可靠，更有助于射頻源的穩定輸出。
4) 倉體左右兩側安裝有側托，用于支撐電極板。
5) 清洗對象的籃具置于電極板上，電極板通過插頭與銅電極座相連，插入的電極板方向決定了該電極板為陽或為陰。
6) 本設備提供的清洗模式為直接等離子體模式。直接等離子體模式為陽、陰電極相間放置。
7) 電極可以同時安放2組~4組任意組合。電極有效面積為380×310 (mm)，電極間距為2.5（cm）可調。
8) 反應倉真空平衡方面做了改進，平衡閥能夠快速解壓（5~10秒內），避免了長時間等待平衡時間，提高了生產效率。

真空泵： 
1） 我們*使用PUDEE油泵PDV30此泵優點：風冷，抽速快，抗氧化，耐腐蝕，維護成本低，可自行緩解溫度過高的散熱體系，無需水冷。完*了油泵易氧化的問題。
2） 耗電低，噪音小，使用壽命長。
3） 泵體內置于機柜內部，使機器緊湊，占地面積小
自動控制系統：
采用PLC進行全程控制，性能穩定，功能全面，人機界面友好，所有工藝參數，工藝過程實時監控，并顯示運行狀態、報警記錄、工藝曲線記錄和工作時間記錄，權限等級，密碼管理等，方便維護保養。

 

射頻電源：
1） 射頻電源為專業滿足在半導體工藝的高頻驅動等離子系統的性能要求而采用的進口固態半導體芯片的射頻電源。電源功率充足500w應用領域包括：刻蝕、RIE、平行板、ICP、射頻濺射、CVD和PVD等工業領域。其技術確保了超穩定的輸出，此穩定技術使功率放大性能得以優化并降低由等離子阻抗波動造成的功率增益變化。
2） 通過編碼器和軟鍵輸入實現Local控制
3） 標準R232接口和A/D控制
4） 在全控制和可編程微處理器作用下，可激活前面的控制面板
5） 控制電路確保了在高VSWR條件下的連貫性
相比業界同類產品，我公司產品除以上重要組件具備優勢以外，無論從其外觀設計到操作程序設計，均貫穿了*、和人性化的理念。設備的清洗時間、潔凈壓力、射頻功率、工藝氣體流量設定可調，一鍵完成全自動工藝，實時故障報警、非法操作提示、清洗結束提示等。自動提醒系統維護、更換真空泵油等，避免機器過載、過老化情形下工作，延長使用壽命。

 

場地要求：
電   源：三相五線   獨立接地，接地電阻≤2Ω。應使用截面積4mm2以上的接地銅線（建議使用獨立接地體，接地電阻必須≤2Ω。）將設備接至PE。
氣    源：氮氣 0.45MPa 其它工作氣體(氧、氬、氫、氦等)：≤ 0.45MPa
壓縮空氣：0.5Mpa
真空泵排放氣管：軟管，管徑（內徑）φ25mm。建議將排氣管接至室外，并且在排氣管路上設置防止水、油流回的裝置。
場地溫度：≤40℃
相對濕度：RH（35-65）%

 

產品驗收標準
產品驗收以技術方案中的主要技術參數中的14項作為驗收標準，驗收報告以此作為基準出具驗收表格，方案中的其他各項均應符合實際的機器配給情況。

 

產品技術規格介紹

NT-60-PSP中型等離子清洗機規格

 

主要技術參數：
1) 整機外形尺寸（約）: 900W×1700H×1000D（mm） 外觀噴塑處理；
2) 反應倉尺寸： W450mm×H300mm×D450mm；
3) 電源：主系統電源: 380×(1±10%)V(AC)  50Hz～60Hz  三相五線
4) 等離子體頻率：13.56MHz；
5) 射頻電源功率：（0～600）W連續可調；
6) 設備功率：≤3kW
7) 控制方式：采用包括觸摸屏人機界面的PLC控制，操作方式包括自動模式和手動模式。在自動模式下將不同工藝參數按照配方方式管理，可同時存儲100組不同的配方。使用時只需要將相應配方號調出即可。設備參數分級管理，設備操作員、工藝人員、維護人員使用不同口令管理不同參數，提高設備安全性。手動模式用于實驗工藝以及設備維護維修。
8) MFC質量流量計控制（標準配置2路）
9) 氣體流量：(0～200)ml/min （標準氣壓,0℃）
10) 工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.45MPa
11) 壓縮空氣（啟動氣動角閥）接口壓力：0.45Mpa
12) 凈化冷卻氣體（氮氣）接口壓力：0.45MPa
13) 設備工作節拍：單次清洗時間≤6min（反應時間180S左右）
14) 工作真空度：10～150Pa

 

反應倉：
1) 反應倉材質：采用高純度304不銹鋼定制，緩解氧化生銹現象；
2) 電極板（托盤）材質：采用鋁合金或高純度304不銹鋼定制，緩解氧化生銹現象；
3) 反應倉后部安裝有銅電極座，電極座分布多個螺釘鎖定接口，水平電極板通過該接口鎖定，牢固可靠，更有助于射頻源的穩定輸出。
4) 倉體左右兩側安裝有側托，用于支撐電極板。
5) 清洗對象的籃具置于電極板上，電極板通過插頭與銅電極座相連，插入的電極板方向決定了該電極板為陽或為陰。
6) 本設備提供的清洗模式為直接等離子體模式。直接等離子體模式為陽、陰電極相間放置。
7) 電極可以同時安放2組~4組任意組合。電極有效面積為380×310 (mm)，電極間距為2.5（cm）可調。
8) 反應倉真空平衡方面做了改進，平衡閥能夠快速解壓（5~10秒內），避免了長時間等待平衡時間，提高了生產效率。

真空泵： 
1） 我們*使用PUDEE油泵PDV30此泵優點：風冷，抽速快，抗氧化，耐腐蝕，維護成本低，可自行緩解溫度過高的散熱體系，無需水冷。完*了油泵易氧化的問題。
2） 耗電低，噪音小，使用壽命長。
3） 泵體內置于機柜內部，使機器緊湊，占地面積小
自動控制系統：
采用PLC進行全程控制，性能穩定，功能全面，人機界面友好，所有工藝參數，工藝過程實時監控，并顯示運行狀態、報警記錄、工藝曲線記錄和工作時間記錄，權限等級，密碼管理等，方便維護保養。

 

射頻電源：
1） 射頻電源為專業滿足在半導體工藝的高頻驅動等離子系統的性能要求而采用的進口固態半導體芯片的射頻電源。電源功率充足500w應用領域包括：刻蝕、RIE、平行板、ICP、射頻濺射、CVD和PVD等工業領域。其技術確保了超穩定的輸出，此穩定技術使功率放大性能得以優化并降低由等離子阻抗波動造成的功率增益變化。
2） 通過編碼器和軟鍵輸入實現Local控制
3） 標準R232接口和A/D控制
4） 在全控制和可編程微處理器作用下，可激活前面的控制面板
5） 控制電路確保了在高VSWR條件下的連貫性
相比業界同類產品，我公司產品除以上重要組件具備優勢以外，無論從其外觀設計到操作程序設計，均貫穿了*、和人性化的理念。設備的清洗時間、潔凈壓力、射頻功率、工藝氣體流量設定可調，一鍵完成全自動工藝，實時故障報警、非法操作提示、清洗結束提示等。自動提醒系統維護、更換真空泵油等，避免機器過載、過老化情形下工作，延長使用壽命。

 

場地要求：
電   源：三相五線   獨立接地，接地電阻≤2Ω。應使用截面積4mm2以上的接地銅線（建議使用獨立接地體，接地電阻必須≤2Ω。）將設備接至PE。
氣    源：氮氣 0.45MPa 其它工作氣體(氧、氬、氫、氦等)：≤ 0.45MPa
壓縮空氣：0.5Mpa
真空泵排放氣管：軟管，管徑（內徑）φ25mm。建議將排氣管接至室外，并且在排氣管路上設置防止水、油流回的裝置。
場地溫度：≤40℃
相對濕度：RH（35-65）%

 

產品驗收標準
產品驗收以技術方案中的主要技術參數中的14項作為驗收標準，驗收報告以此作為基準出具驗收表格，方案中的其他各項均應符合實際的機器配給情況。