KP Technology掃描開爾文探針-材料表征
光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
產地類別 | 進口 | 應用領域 | 能源,電子 |
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KP Technology掃描開爾文探針-材料表征
掃描開爾文探針是一種非接觸、非破壞性振動電容裝置,用于測試導電材料的功函或半導體材料表面的表面電勢,表面功函。由材料表面最頂部的1-3層原子或分子決定,因而開爾文探針是一種非常靈敏的表面分析技術。KP Technology公司目前可提供具有1-3 meV業界最高分辨率的測試系統。
KP Technology掃描開爾文探針-材料表征
主要特點:
● 功函分辨率< 3meV
● 掃描面積:5mm to 300mm(四種型號,每種型號掃描面積不同)
● 掃描分辨率:317.5nm
● 自動高度調節
應用領域:
● 有機和非有機半導體
● 金屬
● 薄膜
● 太陽能電池和有機光伏材料
● 腐蝕
升級附件:
● 大氣光子發射系統
● 表面光電壓(QTH or LED)
● SPS表面光電壓光譜(400-1000nm)
● 金或不銹鋼探針,直徑0.05mm to 20mm
● 相對濕度控制和氮氣環境箱