光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
產地類別 | 國產 | 應用領域 | 能源,電子,電氣,綜合 |
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氣氛可控開爾文探針-材料表征
開爾文探針是一種非接觸、非破壞性振動電容裝置用于導電材料的功函或半導體或絕緣體材料表面的表面電勢,表面功函由材料表面最頂部的1-3層原子或分子決定,因而開爾文探針是一種非常靈敏的表面分析技術,KP Technology公司目前可提供具有1-3 meV業界最高分辨率的測試系統。
RHC020 氣氛控制掃描開爾文探針是控制氣氛檢測樣品的理想解決方案,50x50mm樣品加熱器可將樣品溫度升至100℃,采用先進的電子和硬件系統即時監測控制溫度和濕度變化,附加表面光伏SPV020及表面光電壓譜SPS030模塊,可對光敏感樣品進行強度或波長可變的激發。
氣氛可控開爾文探針-材料表征
技術參數:
● 2mm和50μm探針
● 功函分辨率1-3meV(2mm探針),5-10meV(50μm探針,光學防震臺)
● 50mmX50mm最大掃描面積
● 318納米定位分辨率
● 跟蹤系統自動控制樣品和探針距離● 附加手動高度控制(25.4mm KP 平移)
● 過零信號檢測系統抑制寄生電容
● 50mmX50mm樣品加熱器
● 自動相對濕度控制至1%(10-100%RH)
選件
● 直插型探針支架:2mm-50μm
● 自動溫度控制
● 表面光伏模塊SPV020和SPS030